0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

国产光刻机加快研发 有望打破垄断格局

半导体动态 ? 来源:工程师吴畏 ? 2019-08-12 16:22 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

我国正加速实现中高端光刻机的国产化。近日,亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者,两家机构以无形资产作价10亿元入股,对应持股比例为33.33%。这意味着北京在推动国产光刻机核心部件生产方面迈出实质性步伐,将加快突破国产中高端光刻机制造“卡脖子”技术难题。

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。光刻机工作原理跟照相机类似,不过它的底片是涂满光刻胶的硅片,各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上,光刻胶的曝光部分与硅片进行反应,将其永久刻在硅片上,这就是芯片生产最重要的步骤。由于制造光刻机具有极高的技术和资金门槛,目前全球光刻机市场基本被荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能三家企业垄断。

国望光学2018年6月落户北京经济技术开发区,是北京亦庄国际投资发展有限公司的全资子公司,注册资本20亿元,主营业务为光刻机核心部件生产。

“国产光刻机制作工艺和全球顶尖工艺还有一定差距,国望光学的成立就是要推动国产中高端光刻机整机研发和量产。”亦庄国投相关负责人说,此次通过北交所增资就是要寻找技术实力一流的战略投资方。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1174

    浏览量

    48329
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前EUV光刻机基本由荷兰阿斯麦(ASML
    的头像 发表于 10-17 00:13 ?3511次阅读

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流 ? 近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试
    发表于 08-15 10:15 ?1415次阅读
    今日看点丨全国首台<b class='flag-5'>国产</b>商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    国产光刻胶突围,日企垄断终松动

    ? 电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材,尤其高端材料长期被日美巨头垄断,国外企业对原料和配方高度保密,我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期,
    的头像 发表于 07-13 07:22 ?4130次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    进制程领域,曝光波长逐渐缩短至13.5nm,光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元。 【光刻机的发展机会主要体现在
    的头像 发表于 04-07 09:24 ?741次阅读

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 ?2564次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 ?590次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高? ? 什么是NA值? ? 如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 ?1575次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。 ? 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 ?3099次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

    ? 本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
    的头像 发表于 01-07 10:02 ?2514次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

    ? 本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机的光源波长卡在193nm,芯片制程缩小至6
    的头像 发表于 11-24 11:04 ?2788次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

    ? 本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。? ? ? ?? 光刻机:芯片制造的关键角色 ? ? 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位,被誉为芯片制
    的头像 发表于 11-24 09:16 ?6111次阅读

    一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机发展历程 光刻机的发展历程
    的头像 发表于 11-22 09:09 ?5043次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻机</b>的结构及双工件台技术

    一文了解光刻机成像系统及光学镀膜技术

    高端光刻机研发是一个系统工程,涉及到各方面技术的持续改进和突破,在材料科学方面涉及低吸收损耗石英材料、高纯度薄膜材料的开发,在精密光学领域涉及精密光学加工技术、镀膜技术、光学集成装配技术等,在
    的头像 发表于 11-21 13:43 ?1549次阅读
    一文了解<b class='flag-5'>光刻机</b>成像系统及光学镀膜技术