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如何提高光刻机的NA值

中科院半导体所 ? 来源:Tom聊芯片智造 ? 2025-01-20 09:44 ? 次阅读
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本文介绍了如何提高光刻机的NA值。

为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?

什么是NA值?

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如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名数值孔径,是影响分辨率(R),焦深(DOF)的重要参数,公式为: R=k1?λ/NA DOF=k2?λ/NA2 其中,λ为波长,k1,k2均为工艺因子。从公式可以看出:提高NA可以提升光刻分辨率,增大NA会缩小景深。

如何增大NA? 增大NA值的主要目标是提高分辨率。 NA的公式为: NA=n?sin(θ)

其中: n是透镜介质的折射率 θ是透镜最大入射角。 因此,要增大NA,就要从增大透镜折射率或透镜这两方面入手。

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如何增大透镜介质的折射率? 一般透镜的材料为熔融石英,折射率大概为1.46,而氟化钙,氟化镁,氟化锶的折射率更高。 另一方面是采用浸没式光刻,通过在透镜与晶圆之间填充液体来增加折射率。

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如何增大透镜的最大入射角? 增大透镜的直径。通过增大物镜的直径,可以接纳更多的光线,从而使最大入射角增大。 但大尺寸透镜的磨制和抛光过程中,要确保透镜表面平整、无划痕,并保持预定的曲率。制造难度非常大,成本也随之增加。

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原文标题:如何提高光刻机的NA值?

文章出处:【微信号:bdtdsj,微信公众号:中科院半导体所】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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