0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

高功率电子器件散热的关键:氮化铝与氮化硅陶瓷基板

efans_64070792 ? 来源:efans_64070792 ? 作者:efans_64070792 ? 2025-07-08 17:03 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

随着电子芯片技术的飞速发展,其综合性能不断提升,尺寸却日益微型化。然而,这一进步也带来了新的挑战——芯片工作时产生的热流密度急剧增加。对于电子器件而言,温度每升高10℃,其有效寿命可能会降低30%到50%。因此,如何通过选择合适的封装材料与工艺来提高器件的散热能力,已经成为制约功率器件发展的关键瓶颈。

wKgZPGhs3uGAeh_pAABBvDYT-N8701.jpg

以大功率LED封装为例,其输入功率的70%到80%会转化为热量,仅有20%到30%转化为光能。由于LED芯片面积小,功率密度极高(大于100W/cm2),如果不能及时将热量导出并散发,大量热量就会聚集在LED内部,导致芯片结温逐步升高。这不仅会使LED的性能下降,如发光效率降低、波长红移等,还会在器件内部产生热应力,引发一系列可靠性问题。

封装基板的作用是利用自身材料的高热导率,将热量从芯片(热源)导出,实现与外界环境的热交换。目前,常用的封装基板主要分为高分子基板、金属基板和陶瓷基板几类。对于功率器件封装来说,除了基本的布线功能外,封装基板还需要具备较高的导热性、耐热性、绝缘性、强度以及与芯片材料的热匹配性能。因此,高分子基板和金属基板的应用受到了很大限制。

相比之下,陶瓷材料具有高热导率、耐热性好、高绝缘性、高强度以及与芯片材料热匹配等优异性能,非常适合用作功率器件的封装基板。目前,陶瓷基板材料已经在半导体照明、激光与光通信、航空航天、汽车电子、深海钻探等多个领域得到了广泛应用。

目前常用的电子封装陶瓷基板材料包括氧化铝、碳化硅、氮化铝、氮化硅、氧化铍等。在这些材料中,哪一种最适合用于芯片散热呢?下面由深圳金瑞欣小编来跟大家讲解一下:

氧化铝陶瓷是最常见的一种陶瓷基板材料。早在1929年,德国西门子公司就成功研制出了Al2O3陶瓷,并于1932年发表研究成果,1933年开始工业化生产。它因价格低廉、稳定性好、绝缘性和机械性能优良,且工艺技术成熟,成为目前应用最广泛的陶瓷基板材料。然而,Al2O3陶瓷的热导率较低(20W/(m·K)),且其热膨胀系数与Si不太匹配,这在一定程度上限制了它在大功率电子产品中的应用,主要适用于电路电压较低、集成度不高的封装领域。

BeO陶瓷是一种常用的高导热陶瓷基板材料,综合性能良好,能够满足较高的电子封装要求。但是,其热导率会随温度波动而发生较大变化,温度升高时热导率会显著下降。此外,BeO粉末具有剧毒,大量吸入会导致急性肺炎,长期吸入还会引发慢性铍肺病。因此,其应用受到极大限制。据了解,日本已经禁止了BeO的生产,欧洲也对BeO相关的电子产品进行了限制。

SiC单晶体具有很高的热导率,纯SiC单晶体在室温下的热导率高达490W/(m·K)。然而,由于晶粒取向的差异,多晶SiC陶瓷的热导率仅为67W/(m·K)。此外,SiC的绝缘程度较低,介电损耗大,高频特性差。因此,多年来对SiC作为电路基片材料的研究较少。

相比之下,氮化铝陶瓷的性能更为优异,尤其是其高热导率的特点。其理论热导率可达320W/(m·K),商用产品的热导率一般在180W/(m·K)到260W/(m·K)之间,使其能够用于高功率、高引线和大尺寸芯片的封装基板。早在20世纪80年代初期,世界上一些发达国家就开始从事AlN基片的研究和开发,其中日本开展得最早,技术也最成熟。1983年,日本就研制出了热导率为95W/(m·K)的透明AlN陶瓷和260W/(m·K)的AlN陶瓷基片,并从1984年开始推广应用。

此外,氮化铝陶瓷还具有较高的机械强度和化学稳定性,能够在恶劣环境下保持正常工作状态。正是因为这些优良性能,氮化铝陶瓷在众多陶瓷基板材料中脱颖而出,成为新一代先进陶瓷封装材料的代表产品。

再看看氮化硅陶瓷。1995年以前,Si3N4在室温下的热导率为20到70W/(m·K),远低于AlN和SiC的热导率,因此其导热性能一直未受重视。然而,1995年,一位名叫Haggerty的科学家通过经典固体传输理论计算发现,Si?N?材料热导率低的主要原因是晶格内存在缺陷和杂质,并预测其理论值最高可达320W/(m·K)。此后,科研人员在提高Si?N?材料热导率方面开展了大量研究。通过工艺优化,氮化硅陶瓷的热导率不断提高,目前已突破177W/(m·K)。

此外,Si3N4陶瓷的最大优点是其热膨胀系数低。在陶瓷材料中,除了SiO2(石英)外,Si3N4的热膨胀系数几乎是最低的,为3.2×10-6/℃,约为Al2O3的1/3。

综合来看,氮化铝陶瓷基板的最大优势在于其高热导率,以及与Si、SiC和GaAs等半导体材料相匹配的热膨胀系数,因此在解决大功率器件散热问题方面表现出色。而氮化硅陶瓷则以全面性著称。在现有的可作为基板材料的陶瓷材料中,Si?N?陶瓷的抗弯强度高(大于800MPa),耐磨性好,被称为综合机械性能最好的陶瓷材料,在强度要求较高的散热环境中表现优于其他材料。

深圳市金瑞欣特种电路技术有限公司是主要经营:氧化铝陶瓷基板、氮化铝陶瓷基板、陶瓷电路板、陶瓷pcb、陶瓷线路板、陶瓷覆铜基板、陶瓷基板pcb、DPC陶瓷基板、DBC陶瓷基板,是国内深圳陶瓷电路板厂家。

审核编辑 黄宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 电子器件
    +关注

    关注

    2

    文章

    604

    浏览量

    32837
  • 陶瓷基板
    +关注

    关注

    5

    文章

    248

    浏览量

    11884
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    氮化硅陶瓷基板:新能源汽车电力电子散热革新

    在新能源汽车快速发展的今天,电力电子系统的性能提升已成为行业竞争的关键。作为核心散热材料的 陶瓷基板 ,其技术演进直接影响着整车的能效和可靠
    的头像 发表于 08-02 18:31 ?67次阅读

    氮化铝陶瓷散热片在5G应用中的关键作用

    随着5G技术的飞速发展,高频、高速、功率密度器件带来了前所未有的散热挑战。传统金属及普通陶瓷材料已难以满足核心射频单元、
    的头像 发表于 08-01 13:24 ?87次阅读
    <b class='flag-5'>氮化铝</b><b class='flag-5'>陶瓷</b><b class='flag-5'>散热</b>片在5G应用中的<b class='flag-5'>关键</b>作用

    氮化硅陶瓷逆变器散热基板:性能、对比与制造

    氮化硅(Si?N?)陶瓷以其卓越的综合性能,成为现代大功率电子器件(如IGBT/SiC模块)散热基板
    的头像 发表于 07-25 17:59 ?513次阅读
    <b class='flag-5'>氮化硅</b><b class='flag-5'>陶瓷</b>逆变器<b class='flag-5'>散热</b><b class='flag-5'>基板</b>:性能、对比与制造

    氮化硅功率电子器件封装陶瓷基板

    氮化硅陶瓷导热基片凭借其优异的综合性能,在电子行业,尤其是在功率密度、高可靠性要求领域,正扮演着越来越重要的角色。
    的头像 发表于 07-25 17:58 ?240次阅读

    氮化硅陶瓷射频功率器件载体:性能、对比与制造

    氮化硅陶瓷凭借其独特的物理化学性能组合,已成为现代射频功率器件载体的关键材料。其优异的导热性、绝缘性、机械强度及热稳定性,为
    的头像 发表于 07-12 10:17 ?3372次阅读
    <b class='flag-5'>氮化硅</b><b class='flag-5'>陶瓷</b>射频<b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>器件</b>载体:性能、对比与制造

    从氧化铝氮化铝陶瓷基板材料的变革与挑战

    在当今电子技术飞速发展的时代,陶瓷基板材料作为电子器件关键支撑材料,扮演着至关重要的角色。目
    的头像 发表于 07-10 17:53 ?284次阅读
    从氧<b class='flag-5'>化铝</b>到<b class='flag-5'>氮化铝</b>:<b class='flag-5'>陶瓷</b><b class='flag-5'>基板</b>材料的变革与挑战

    氮化硅AMB陶瓷覆铜基板界面空洞率的关键技术与工艺探索

    在现代电子封装领域,氮化硅(Si?N?) AMB陶瓷覆铜 基板凭借其卓越的热导率、低热膨胀系数以及优异的电气绝缘性能,逐渐成为高端电子设备的
    的头像 发表于 07-05 18:04 ?1366次阅读

    化硅薄膜和氮化硅薄膜工艺详解

    化硅薄膜和氮化硅薄膜是两种在CMOS工艺中广泛使用的介电层薄膜。
    的头像 发表于 06-24 09:15 ?455次阅读
    氧<b class='flag-5'>化硅</b>薄膜和<b class='flag-5'>氮化硅</b>薄膜工艺详解

    通过LPCVD制备氮化硅低应力膜

    本文介绍了通过LPCVD制备氮化硅低应力膜 氮化硅膜在MEMS中应用十分广泛,可作为支撑层、绝缘层、钝化层和硬掩膜使用。SiN极耐化学腐蚀,疏水性使它可以作为MEMS压力传感器、MEMS流量
    的头像 发表于 05-09 10:07 ?408次阅读
    通过LPCVD制备<b class='flag-5'>氮化硅</b>低应力膜

    氮化硅在芯片制造中的核心作用

    在芯片制造这一复杂且精妙的领域中,氮化硅(SiNx)占据着极为重要的地位,绝大多数芯片的生产都离不开它的参与。从其构成来看,氮化硅属于无机化合物,由硅元素与氮元素共同组成。这种看似普通的元素组合,却蕴含着诸多独特的性质,在芯片制造流程里发挥着不可替代的作用 。
    的头像 发表于 04-22 15:23 ?1131次阅读
    <b class='flag-5'>氮化硅</b>在芯片制造中的核心作用

    氮化铝陶瓷基板:高性能电子封装材料解析

    氮化铝陶瓷基板是以氮化铝(AIN)为主要成分的陶瓷材料,具有高热导率、低热膨胀系数、优良电性能和机械性能等特点。它广泛应用于高效
    的头像 发表于 03-04 18:06 ?677次阅读
    <b class='flag-5'>氮化铝</b><b class='flag-5'>陶瓷</b><b class='flag-5'>基板</b>:高性能<b class='flag-5'>电子</b>封装材料解析

    LPCVD氮化硅薄膜生长的机理

    可以看出, SiH4提供的是Si源,N2或NH3提供的是N源。但是由于LPCVD反应温度较高,氢原子往往从氮化硅薄膜中去除,因此反应物中氢的含量较低。氮化硅中主要由硅和氮元素组成。而PECVD反应
    的头像 发表于 02-07 09:44 ?653次阅读
    LPCVD<b class='flag-5'>氮化硅</b>薄膜生长的机理

    氮化硅薄膜的特性及制备方法

    小、化学稳定性好以及介电常数高等一系列优点。本文将主要介绍了氮化硅薄膜的制备方法、特性及其在半导体器件制造中的具体应用,重点对比低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)两种制备工艺,并详细解析低应
    的头像 发表于 11-29 10:44 ?2368次阅读
    <b class='flag-5'>氮化硅</b>薄膜的特性及制备方法

    氮化硅薄膜制备方法及用途

    一、氮化硅薄膜制备方法及用途 氮化硅(Si3N4)薄膜是一种应用广泛的介质材料。作为非晶态绝缘体,氮化硅薄膜的介电特性优于二氧化硅,具有对可移动离子较强的阻挡能力、结构致密、针孔密度小
    的头像 发表于 11-24 09:33 ?1777次阅读
    <b class='flag-5'>氮化硅</b>薄膜制备方法及用途

    华清电子拟在重庆建设半导体封装材料和集成电路先进陶瓷生产基地

    临港组团投资建设半导体封装材料和集成电路先进陶瓷生产基地,拟定总投资20亿元,全面达产后年产值突破25亿元。项目分三期建设,产品以氮化铝纯粉体、氮化铝/氧
    的头像 发表于 11-13 11:22 ?838次阅读