0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

华为要进军光刻机制造领域?

中山市物联网协会 ? 来源:物联网智库 ? 作者:物联网智库 ? 2021-01-07 16:09 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

在今年5月18日的华为公司第十七届全球分析师大会上,华为轮值董事长郭平表示,求生存,是华为现在的主题词。在美国政府的咄咄逼人下,华为显然急需谋求破局。是否要进军***制造或者半导体设备领域,或许华为还在谨慎考量。

这几天,关于华为要进军***的消息刷屏微博和微信朋友圈。

纵观所有新闻渠道发布的相关消息,出现最频繁的莫过于上图所示的招聘内容。

抱着“吃瓜”心态,笔者仔细查找了拉勾网、智联招聘、华为社招等各个主流招聘渠道,仍然没能找到相关招聘内容。

这究竟是怎么回事?是华为真的要放大招了,还是又一次的媒体自嗨?为此,笔者踏上了一条探求真相的道路。

华为已经进军***制造领域?

7月19日深夜,数码博主@长安数码君发微博称,华为发布新岗位“光刻工艺工程师”,正研究光刻工艺。该微博感慨,“华为太难了,拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行,还要琢磨研究光刻相关技术……国内产业链在这些方面帮不上华为,华为只能自己来了!

大概是受此影响,有网友在猎聘APP上发现,华为确实在招聘光刻工艺工程师,工作地址在东莞松山湖,薪资面议。

由此开始,关于华为要进军***的消息铺天盖地而来。但大多数人都只是粗略看了一眼岗位名称,并没仔细查看职位描述

如果你愿意仔细研究上述工作内容,就会发现这并不是一个面向大众所关心的芯片制造***的职位——其中没有明显与光刻工艺相关的内容,包括制造***和使用***制造集成电路

据知乎网友@蜀山熊猫介绍,该职位描述实际是招封装工程师的,并不是一些人所理解的制造级光刻,和IDM也没太大关联。从2.3来看的话,确切的说是做芯片3D晶圆级封装。

另据知乎网友@亚森罗宾介绍,不只是封装,甚至面板、光伏等行业也有光刻需求,但这种光刻不是集成电路制造过程中用到的光刻。另外,根据挖掘出来的时间顺序,该招聘从去年就开始了。

同时,笔者意外发现,华为海思在智联招聘上的一则已经失效的“TSV刻蚀工艺工程师”与此次“光刻工艺工程师”的岗位描述完全一致。

由此可见,此次网传的华为招聘光刻工艺工程师,从而进军***可谓是一场媒体的狂欢,而华为发现被自媒体炒作后也及时取消了该职位招聘。

尽管“招聘”的信息是被过度解读,但是,近期还是有一些其他言论透露了华为想要进军芯片制造的可能。

可能是受华为招聘光刻工艺工程师的消息影响,微博上一位数码博主发布传闻称,华为成立了***部门,将自研***,前期评估5nm***将两年内投入量产。所谓5nm***,指的是能够生产5nm芯片的***。

同时,还有传闻表示,华为集合了数万人,封闭研发,每天工作12-16小时,争取两年内实现14nm***的导入。

乍一看振奋而悲壮,然而,理论上讲,华为想要2年内搞出14nm,甚至5nm的***,基本等于天方夜谭。

但是,这也不代表华为就会直接放弃。

据芯智讯爆料,一位半导体设备厂商内部人士表示,“华为近期搞到了上海的几家半导体设备厂商的员工通讯录,挨个打了电话。有同事就被挖走了,而且是放下了手中的重要项目,直接走了。上海微电子的老总都到上海市政府领导那里去投诉了。

显然,从这些方面的消息来看,华为似乎是真的是要涉足半导体设备领域。不过,一位被华为招募的半导体设备厂商员工表示,“华为没有直接说要做设备,可能是要搭建不含美系设备的产线”。但芯智讯还表示,华为内部的一位发言人此前表示,“华为不会自建产线。”

确实,一座先进晶圆厂的投资动辄百亿美金,需要长期的技术积累和投入,尤其需要一系列关键的半导体设备。

但是,在美国政府的咄咄逼人下,华为显然急需谋求破局。是否要进军***制造或者半导体设备领域,或许华为还在谨慎考量。在今年5月18日的华为公司第十七届全球分析师大会上,华为轮值董事长郭平也表示,求生存,是华为现在的主题词。那么,华为会研发***吗?

华为研发***的难度系数有多高?

随着美国政府不断施压,华为面临的难度越来越高。今年5月15日,美国政府升级对华为的管制,国外的公司只要采用美国技术、软件、设备等给华为生产芯片,在供货前必须要向美国方面提出申请,在征得美国方面同意后才能对华为供应。

受此影响,华为芯片面临“断供”风险。此前,有消息称,三星和台积电将配合华为建设非美系生产线,但此后都得到两方否定。华为要想破局,自建芯片生产线似乎是唯一出路,但这一路程上的艰难超乎想象。

事实上,晶圆制造整个环节需要:氧化炉、涂胶显影设备、***、刻蚀机、离子注入机、薄膜沉积设备(包括PVD、CVD、ALD等)、化学机械抛光机、清洗机、晶圆检测设备等。此外,在IC封测环节还需要经过切割、装片、焊线、封装等环节,也需要很多的设备。可以说,任何一个设备环节被卡住,所有的努力就将付诸东流。

尽管对于芯片制造来讲,***的重要性不言而喻。但是,也不是说造出***,华为的困难就能迎刃而解。除***外,EDA、应用材料等很多领域仍然存在较大缺口,若想要造出一条领先的非美系生产线,所需要的不仅仅是先进***。

但从另一方面想,对于华为而言,首先需要解决的问题是,如何实现所有芯片制造的关键环节的设备都能够不被美国卡脖子。从设备方面考虑,目前国产芯片产业链与国际相比,***是受掣肘最甚的设备之一,所以,华为从***入手,也并非完全不可能。

然而,***的难度超乎想象。目前,全球***市场99%的市场都被ASML、尼康和佳能三大巨头占据,无一不是经历了数十年的积累,高端EUV***更是只有ASML唯一供应。

上海微电子90nm***

与国际巨头相比,国产***龙头上海微电子目前最新的90nm***也仅仅是ASML十多年前的水平。尽管如此,该***就包含13个分系统、3万个机械件、200多个传感器,对误差和稳定性的要求极高。

由此可见,***是一套集合全球最先进技术的精密系统。更重要的是,***的很多核心部件需要由全球各地的供应商所提供的,很多甚至需要定制。

这意味着,华为如果想要自研出可以供自己使用的高端***,其最大的难点并非组装出一台高端***,而是搭建起一条不被美国卡住脖子的高端***供应链。

结语

近期,不只是华为,包括中科院5nm激光光刻弯道超车、95后本科生DIY纳米级***等消息频繁登上热搜,最后不外乎都被发现是媒体为了博取噱头,如此行为可谓“捧杀”。

诚然,中国苦“芯”久矣!中国慕“***”亦久矣!如果我们真的在核心技术领域取得了重大进展,那确实值得大书特书,大力报道;但如果夸大其实,自我高潮,那只能是误导群众,贻笑大方。

无论如何,华为都已经走出了一条与众不同的路。

原文标题:华为要进军***制造,两年量产5nm***?还是又一场媒体“自嗨”?

文章出处:【微信公众号:中山市物联网协会】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

责任编辑:haq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 华为
    +关注

    关注

    216

    文章

    35293

    浏览量

    256966
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1174

    浏览量

    48329

原文标题:华为要进军光刻机制造,两年量产5nm光刻机?还是又一场媒体“自嗨”?

文章出处:【微信号:ZS-IOT,微信公众号:中山市物联网协会】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前EUV光刻机基本由荷兰阿
    的头像 发表于 10-17 00:13 ?3511次阅读

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 ?219次阅读

    MEMS制造领域光刻Overlay的概念

    在 MEMS(微机电系统)制造领域光刻工艺是决定版图中的图案能否精确 “印刷” 到硅片上的核心环节。光刻 Overlay(套刻精度),则是衡量光刻
    的头像 发表于 06-18 11:30 ?557次阅读
    MEMS<b class='flag-5'>制造</b><b class='flag-5'>领域</b>中<b class='flag-5'>光刻</b>Overlay的概念

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对
    的头像 发表于 04-07 09:24 ?741次阅读

    不只依赖光刻机!芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖
    的头像 发表于 03-24 11:27 ?1493次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!芯片<b class='flag-5'>制造</b>的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像
    的头像 发表于 02-17 14:09 ?2561次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 ?590次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    芯片制造:光刻工艺原理与流程

    光刻是芯片制造过程中至关重要的一步,它定义了芯片上的各种微细图案,并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍,包括原理和具体步骤。?? 光刻原理??????
    的头像 发表于 01-28 16:36 ?1621次阅读
    芯片<b class='flag-5'>制造</b>:<b class='flag-5'>光刻</b>工艺原理与流程

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高? ? 什么是NA值? ? 如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 ?1575次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。 ? 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道
    的头像 发表于 01-16 09:29 ?3097次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

    ? 本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 ?2514次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

    ? 本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机
    的头像 发表于 11-24 11:04 ?2788次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

    ? 本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。? ? ? ?? 光刻机:芯片制造的关键角色 ? ?
    的头像 发表于 11-24 09:16 ?6104次阅读

    一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机发展历程
    的头像 发表于 11-22 09:09 ?5042次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻机</b>的结构及双工件台技术