超景深显微镜航天领域应用：织构化超分子复合材料摩擦性能三维表征

超高分子量聚乙烯（UHMWPE）具优异自润滑性、耐腐蚀性与抗冲击性，在航空航天、精密机械领域应用前景广，但低硬度、抗磨粒磨损差的缺陷限制极端工况适配。表面织构改性与SiC 填料复合是提升其摩擦学性能的关键路径，微观形貌与性能关联观测需高精度表征技术。光子湾科技超景深显微镜凭高分辨率原位观测能力，精准捕捉材料表面织构与磨损特征，提供核心数据支撑。本文基于三维轮廓表征技术，探究织构化 UHMWPE/SiC 复合材料制备工艺与摩擦学性能，为高端制造耐磨材料研发提供参考。

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实验材料、仪器与方法

实验材料：超高分子量聚乙烯UHMWPE、纳米SiC（纯度99.5%）、硅烷偶联剂 KH-560（分析纯，改善 SiC 分散性），辅助试剂为去离子水、无水乙醇（均为分析纯）。

核心仪器：超景深显微镜、纳秒激光打标机、往复式摩擦磨损实验机、接触角测量仪。

测试方法：超景深显微镜量化织构间距（100-900μm）、表面粗糙度；摩擦实验设载荷80N（低载）/160N（高载）、频率 2-6Hz（对应速度 1.2-3.6m/min）、干摩擦 / 水润滑两种状态，磨损量通过电子天平（HC1004，精度 0.1mg）测摩擦前后质量差（超声清洗后 60℃烘干 6h）。

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UHMWPE/SiC复合材料制备及织构加工

UHMWPE/SiC 复合材料制备流程图

UHMWPE/SiC 复合材料制备：SiC 经 KH-560（1:4 乙醇稀释）改性，与 UHMWPE 按质量比 100/0-97/3 混合（10000r/min 搅拌 3min），210℃预热后 10MPa 热压 30min，脱模得 150×150×4mm 试样，切割为 20×30×4mm（S0-S3）。超景深显微镜与密度测试显示：随SiC 含量增加，密度从 0.938g/cm?（S0）升至 0.968g/cm?（S3），红外光谱仅出现 UHMWPE 的 - CH?特征峰，证明 SiC 与 UHMWPE 为物理混合，不改变分子结构。

表面织构制备：选1% SiC 试样（S1），激光刻蚀网格织构（间距 100-900μm、次数 1/3 次，T100-T900）。超景深显微镜观测：刻蚀致表面撕裂脱落，T100 织构重叠、T900 规整；润湿性测试中，T0 接触角 87.1°，刻蚀后均 > 90°，T100-3 接触角 135.5°。

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光滑 UHMWPE/SiC 复合材料摩擦学性能

光滑试样磨损量

摩擦系数：高速（6Hz）时 SiC 降低高载摩擦系数，含量影响小；低速（2Hz）时随 SiC 先降后升，低载 S1（0.075）、高载 S2（0.074）最小，S3 因团聚回升至 0.108。

磨损量：随SiC 先减后升，S1 磨损量最小 —— 高载高速干摩擦 2mg（降 96.8%）、水润滑 1.1mg（降 84.5%）。

磨损机理：超景深显微镜观测到，高速高载干摩擦S0表面熔融（粘着磨损）；低速低载S1有浅犁沟（粘着+ 磨粒 + 疲劳磨损）。

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织构化 UHMWPE/SiC 复合材料摩擦学性能

磨损样品表面三维轮廓图：(a) 160N、干摩擦工况，样品刻蚀 1 次； (b) 160N、干摩擦工况，样品刻蚀 3 次； (c) 160N、水润滑工况，样品刻蚀 1 次；(d) 160N、水润滑工况，样品刻蚀 3 次；(1) 样品 T100；(2) 样品 T300；(3) 样品 T500；(4) 样品 T700；(5) 样品 T900

干摩擦：摩擦系数随间距先降后升再降，T100 最小（0.07）；磨损量 T900 最小（0.1mg，降 90.9%），T100 达 3.2mg（增 180%）。

水润滑：T300/T500 摩擦系数最稳定（0.020-0.026），T500 最小；磨损量 T300 最小（0.2mg，降 77.8%）。超景深显微镜显示，水润滑下织构保留更完整，可形成流体动压效应，磨损机理为粘着+ 疲劳磨损，织构有效抑制磨粒磨损。

综上，本研究证实：在不同工况下，SiC含量对UHMWPE摩擦学性能的影响规律不同，1% SiC 复合 + 织构化工艺（干摩擦900μm 间距、水润滑 300-500μm 间距）可最优提升UHMWPE 摩擦学性能，为耐磨材料设计提供微观数据支撑。

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光子湾超景深显微镜

光子湾超景深显微镜用于对各种精密器件及材料表面进行亚微米级三维轮廓测量的检测仪器。与传统的光学显微镜不同，该设备拥有更大的景深、更广的视野、更高的放大倍率、更全的观测角度，足以应对各种极具挑战的观测场景。

超清数字成像器件，3840*2160 800W像素超高速实时传输

多种HDR技术结合运用，实现亮区暗区真实呈现

先进的远心光学系统设计，保证真彩与锐利、低畸变图像质量

光子湾超景深显微镜以大景深、三位量化、无损高效的特点，可精准观测被摄物体的三维轮廓，为工艺优化提供数据支撑，是提升工艺质量从经验判断到数据驱动的关键一步。未来，光子湾科技将持续深化对超景深显微镜技术的研究与应用，助力半导体、航空航天等高端制造领域的材料研发，深化织构- 摩擦学性能关联机制研究。

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原文参考：《织构化UHMWPE_SiC复合材料的制备及摩擦学性能研究》

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