0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

清溢光电在南海丹灶建设高端半导体掩膜版生产基地

微云疏影 ? 来源:综合整理 ? 作者:综合整理 ? 2024-01-30 14:34 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

佛山清溢微电子有限公司于今年1月29日出资2013万元,竞标获得位于佛山市南海区丹灶镇丹凤路的一块土地使用权。该地皮面积达到了19167.02平方米(约28.75亩),并计划在此基础上兴建高端半导体掩膜版生产基地。根据规划,此项目预计总投资额为15亿元(包括8亿元固定资产投入)。

据悉,佛山清溢微电子有限公司就是深圳清溢光电股份有限公司(以下简称为“清溢光电”)在佛山设立的分公司。该公司创立于1997年,至2019年已成功上市;主营业务涵盖了掩膜版的研发、设计、制造及销售。作为中国内地首家且大型的掩膜版制造领航者之一,其产品广泛应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等多个产业。

根据南海丹灶官方信息,佛山市南海区人民政府于2023年12月15日与深圳清溢光电股份有限公司举行了签约仪式,标志着清溢光电佛山生产基地项目宣告落户南海丹灶,为佛山显示以及半导体掩膜版领域增添新的活力。此外,佛山清溢光电有限公司还在同年12月29日成功竞购丹灶镇丹凤路8号地块,占地面积达33201㎡(约49.8亩)。项目预计建设成为高精度掩膜版生产基地,总建筑面积近6万㎡,专注于研发及生产高精密度显示用掩膜版,项目总投资金额为20亿元人民币。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 高精度
    +关注

    关注

    1

    文章

    671

    浏览量

    26256
  • 半导体芯片
    +关注

    关注

    61

    文章

    936

    浏览量

    71556
  • 掩膜
    +关注

    关注

    0

    文章

    28

    浏览量

    11903
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    投资笔记:半导体版的投资逻辑分析(含平板显示)(13634字)

    目录一、什么是版:定义、分类二、版制造加工工艺:关键参数量测及检测三、版产业链:产业
    的头像 发表于 06-07 05:59 ?699次阅读
    投资笔记:<b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版的投资逻辑分析(含平板显示)(13634字)

    铬板和光刻的区别

    版作为微纳加工技术中光刻工艺所使用的图形母版,IC、平版显示器、印刷电路版、微机电系统等领域具有广泛的应用。随着信息技术和智能制造的快速发展,特别是智能手机、平板电脑、车载电子等市场的快速增长
    的头像 发表于 02-19 16:33 ?652次阅读

    版、模具与微流控芯片及其制作方法与用途

    版与光罩的区别与应用 版和光罩是半导体制造过程中的两个重要概念,它们虽然都扮演着不可或缺的角色,但存在一些区别。
    的头像 发表于 02-18 16:42 ?643次阅读

    雷迪克:拟建摩洛哥汽车轴承生产基地

    ,其公司名称将以最终核准登记为准)。 此次投资的主要目的是摩洛哥建设一个汽车轴承生产基地。雷迪克公司表示,这一生产基地的建立将有助于公司进一步拓展海外市场,提升产品
    的头像 发表于 02-18 09:32 ?853次阅读

    正性光刻对版有何要求

    正性光刻对版的要求主要包括以下几个方面: 基板材料:版的基板材料需要具有良好的透光性、稳定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因为它具有较低的热膨胀系数,能够
    的头像 发表于 02-17 11:42 ?514次阅读

    光刻膜技术介绍

    ?? 光刻简介 ?? ? 光刻(Photomask)又称光罩、光、光刻
    的头像 发表于 01-02 13:46 ?2842次阅读
    光刻<b class='flag-5'>掩</b>膜技术介绍

    【「大话芯片制造」阅读体验】+ 半导体工厂建设要求

    是工厂的排气系统;半导体制造和检验过程中使用多种药液和气体,也会产生大量的污水和有害气体,如图1-1所示,污水处理设施、废液储存罐、废气处理设施也是半导体工厂的标配。 通过阅读此章了解了半导体工厂
    发表于 12-29 17:52

    正性光刻对版的要求

    正性光刻过程中,版(Photomask)作为图形转移的关键工具,其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对版的主要要
    的头像 发表于 12-20 14:34 ?749次阅读

    电子拟在重庆建设半导体封装材料和集成电路先进陶瓷生产基地

    临港组团投资建设半导体封装材料和集成电路先进陶瓷生产基地,拟定总投资20亿元,全面达产后年产值突破25亿元。项目分三期建设,产品以氮化铝高纯粉体、氮化铝/氧化铝陶瓷基板、陶瓷覆铜板、高
    的头像 发表于 11-13 11:22 ?863次阅读

    光刻和光刻模具的关系

    光刻(也称为光罩)和模具微纳加工技术中都起着重要的作用,但它们的功能和应用有所不同。 光刻版 光刻
    的头像 发表于 10-14 14:42 ?866次阅读

    基版光刻中的作用

    进行电路图形复制,从而实现芯片的批量生产。 其中,光版中包含集成电路的图案,随着晶体管变得越来越小,光的制造变得越来越复杂,以便将图
    的头像 发表于 10-09 14:24 ?1150次阅读

    光刻版制作流程

    光刻版的制作是一个复杂且精密的过程,涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻版制作流程: 1. 设计与准备 开始制作光刻
    的头像 发表于 09-14 13:26 ?1639次阅读

    版的技术迭代

    版产品诞生至今约70多年,是电子制造行业中使用的生产制具。由于版技术演变较慢,下游运用广泛且不同行业对
    的头像 发表于 09-10 14:00 ?918次阅读
    <b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版的技术迭代

    版与光刻胶的功能和作用

    版与光刻胶芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。? 版?,也称为光罩、光
    的头像 发表于 09-06 14:09 ?1815次阅读

    半导体版制造工艺及流程

    半导体版制造工艺及流程 版(Photomask)又称光罩,是液晶显示器、半导体等制造过程
    的头像 发表于 08-19 13:20 ?3200次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版制造工艺及流程