12 月 27 日,相关调查显示,集邦咨询预计 2023 年半导体光刻胶销售额将下滑 6-9%。尽管面临挑战,但由于下游客户库存逐步减少以及产能逐渐恢复,预期 2024 年半导体业或将迎来复苏,进而带动光刻胶需求回升。
所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多,此次涨价涉及的KrF 光刻胶则属高级别光刻胶,将成为各厂商关注的焦点。
当前光刻胶市场由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学以及东进半导体等主要制造商主导。据悉,光刻胶行业高度专业化且涉及复杂的树脂、感光酸及添加剂配制,这被各公司视为重要商业秘密。这一方面源于巨大的技术壁垒,另一方面,从模拟试验到实际生产对产品质量和性能的严格要求,都增加了开发难度与时间成本。
另据报道,由于满足客户需求和生产线调整需经过漫长的 1 至 3 年验证期,客户常难转向现有的光刻胶供应商。
-
晶圆
+关注
关注
53文章
5212浏览量
130284 -
分立器件
+关注
关注
5文章
238浏览量
21987 -
光刻胶
+关注
关注
10文章
341浏览量
31079
发布评论请先 登录
从光固化到半导体材料:久日新材的光刻胶国产替代之路
国产光刻胶突围,日企垄断终松动
针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

光刻胶成为半导体产业的关键材料
一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望

一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶
国产光刻胶通过半导体工艺量产验证

评论