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AMD可以把内存堆在CPU上吗?

硬件世界 ? 来源:硬件世界 ? 2023-02-23 10:04 ? 次阅读
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先进制程工艺进度缓慢的情况下,多芯片整合封装成了半导体行业的大趋势,各家不断玩出新花样。

ISSCC 2023国际固态电路大会上,AMD提出了多种新的整合封装设想,其中之一就是在CPU处理器内部,直接堆叠DRAM内存,而且是多层堆叠。

一种方式是CPU计算模块、DRAM内存模块,并排封装在硅中介层上,而另一种方式就是在计算模块上方直接堆叠内存模块,有点像手机SoC。

AMD表示,这种设计可以让计算核心以更短的距离、更高的带宽、更低的延迟访问内存,而且能大大降低功耗,2.5D封装可以做到独立内存功耗的30%左右,3D混合键合封装更是仅有传统的1/6。

如果堆叠内存容量足够大,主板上的DIMM插槽甚至都可以省了。

当然,AMD的这种设想仅面向服务器和数据中心领域,桌面上不会这么做,否则就无法升级了。

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AMD甚至考虑在Instinct系列加速卡已经整合封装HBM高带宽内存的基础上,在后者之上继续堆叠DRAM内存,但只是一层,容量不会太大。

这样的最大好处是一些关键算法内核可以直接在整合内存内执行,而不必在CPU和独立内存之间往复通信传输,从而提升性能、降低功耗。

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另外,AMD还设想在2D/2.5D/3D整合封装芯片的内部,除了CPU+GPU混合计算核心,还集成更多模块,包括内存、统一封装光网络通道物理层、特定域加速器等等,并引入高速标准化的芯片间接口通道(UCIe)。

尤其是引入光网络通道,可以大大简化网络基础架构。

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我们知道,AMD最近两年的CPU及GPU显卡已经转向了chiplets小芯片架构设计,每个芯片由不同的模块组成,可以降低芯片生产难度,提高良率,控制好成本。

AMD的芯片代工主要由台积电完成,不过小芯片封装主要是靠国内的芯片封测公司通富微电。

通富微电表示,通过在多芯片组件、集成扇出封装、2.5D/3D等先进封装技术方面的提前布局,可为客户提供多样化的Chiplet封装解决方案,并且已为AMD大规模量产Chiplet产品。

通富微电还提到,目前,大多数世界前20强半导体企业和绝大多数国内知名集成电路设计公司都已成为通富微电的客户。

通过并购,公司与AMD形成了“合资 合作”的强强联合模式,建立了紧密的战略合作伙伴关系;

AMD完成对全球FPGA龙头赛灵思的收购,实现了CPU GPU FPGA的全方位布局,双方在客户资源、IP和技术组合上具有高度互补性,有利于AMD在5G、数据中心和汽车市场上进一步迈进。

公司是AMD最大的封装测试供应商,占其订单总数的80%以上,未来随着大客户资源整合渐入佳境,产生的协同效应将带动整个产业链持续受益。

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顺便看看新工艺。

在3nm工艺上,虽然三星在去年6月份抢先宣布量产,晚了半年的台积电却后发先至,因为他们拿到了最重要的客户——苹果订单,而且首批的3nm产能是苹果包圆的,其他厂商都要靠后,甚至2023年都有可能是苹果独占。

目前苹果用的是第一代3nm,也就是N3工艺,相比于5nm工艺,3nm工艺的逻辑密度将增加60%,相同速度下功耗降低30-35%,这是世界上最先进的技术。

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其他厂商要等第二代3nm,也就是N3E工艺,对比N5同等性能和密度下功耗降低34%、同等功耗和密度下性能提升18%,或者可以将晶体管密度提升60%,密度比N3还缩水一些,但是成本也低。

那苹果包圆的3nm工艺现在进展到底如何?消息人士透露,位于南科18B的3nm晶圆厂现在已经可以做到日投片量1000片,超过1000片的产量很重要,通常意味着芯片真正进入了量产阶段。

有关台积电及三星的3nm良率一直都是个谜,此前的传闻说是三星的3nm良率仅有10-20%,台积电的3nm良率可达70-80%,然而后者的良率也太高了,又被戳穿实际上只有不到50%良率。

不过随着投片量超过1000片晶圆,台积电3nm良率争议应该可以告一段落了,至少用于生产已经没什么大问题了。






审核编辑:刘清

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原文标题:AMD要把内存堆在CPU上!主板插槽都省了

文章出处:【微信号:hdworld16,微信公众号:硬件世界】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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