光刻技术是什么,有哪些作用

光刻是在掩模中转移几何形状图案的过程，是覆盖在表面的一层薄薄的辐射敏感材料(称为抗辐射剂) ，也是一种半导体晶片。图5.1简要说明了光刻用于集成电路制造的工艺。如图5.1(b)所示，辐射为通过口罩的透明部分传播，使其暴露光刻胶不溶于显影剂溶液，从而使之直接将掩模图案转移到晶圆上。在定义模式之后，需要采用蚀刻工艺选择性地去除屏蔽部分基本层。光刻曝光的性能由三个参数决定: 分辨率、注册和吞吐量。分辨率定义：半导体晶圆上的薄膜。注册是衡量其准确性的一个指标连续掩模上的模式可以对齐或叠加在同一晶圆片上先前定义的图案。吞吐量是数量每小时可以暴露在给定掩模水平下的晶圆。

光刻技术是什么,有哪些作用

洁净室

集成电路制造设备需要一个洁净室，特别是在光刻领域，沉积在半导体晶圆和光刻掩模上的灰尘颗粒可能造成设备缺陷。如图5.2所示，空气中的颗粒附着在掩模表面的图案可以是不透明的随后转移到电路模式，从而导致不好的后果。例如，图5.2中的粒子1可能导致底层有一个针孔粒子2可能引起的收缩电流在金属流道中流动，而粒子3可能导致短路从而使电路失效。

光刻技术是什么,有哪些作用

审核编辑：汤梓红

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晶圆(126258) 晶圆(126258)
工艺(28544) 工艺(28544)
光刻(29860) 光刻(29860)

纳米压印光刻技术应用在即，能否掀起芯片制造革命？

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米

2024-03-09 00:15:00

2912

光刻厂落地雄安？中国电子院否认！真相是啥？

电子发烧友网报道（文/李弯弯）近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目，把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了下面这张图，表示图片

2023-09-20 08:56:50

2579

绕开EUV光刻，下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律

2023-07-16 01:50:15

3008

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。

2024-03-21 11:31:41

芯片制造工艺：光学光刻-掩膜、光刻胶

制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。

2024-03-20 12:36:00

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。

2024-03-20 11:36:50

195

电子束光刻的参数优化及常见问题介绍

本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化，最后介绍了一些常见问题。

2024-03-17 14:33:52

174

传光刻机巨头ASML要搬离荷兰？

据荷兰《电讯报》3月6日报道，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划搬离荷兰。

2024-03-08 14:02:15

179

浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。

2024-03-08 10:42:37

一文解析半导体设计电路的“光刻工艺”

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

2024-03-06 14:28:50

ASML光刻机技术的领航者，挑战与机遇并存

ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。

2024-03-05 11:26:00

123

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

2024-03-04 17:19:18

399

如何在芯片中减少光刻胶的使用量

光刻胶不能太厚或太薄，需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景，较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。

2024-03-04 10:49:16

131

基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。

2024-03-04 10:19:28

206

不同材料在晶圆级封装中的作用

共读好书本篇文章将探讨用于晶圆级封装（WLP）的各项材料，从光刻胶中的树脂，到晶圆承载系统（WSS）中的粘合剂，这些材料均在晶圆级封装中发挥着重要作用。光刻胶（Photoresists, PR

2024-02-18 18:16:31

277

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

Takeishi向英国《金融时报》表示，公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。佳能表示，与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同，纳米压印光刻不需要光源，利用

2024-02-01 15:42:05

270

解析光刻芯片掩模的核心作用与设计

掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一类不可或缺的晶圆制造材料，在芯片封装（构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷电路板、微机电器件等用到光刻技术的领域也都能见到各种掩模的身影。

2024-01-18 10:25:22

145

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。

2024-01-03 18:12:21

346

改进芯片技术的关键因素——光刻技术

使用13.5nm波长的光进行成像的EUV光刻技术已被简历。先进的逻辑产品依赖于它，DRAM制造商已经开始大批量生产。

2023-12-29 15:22:31

172

英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。

2023-12-28 11:31:39

406

激光微纳加工技术详解

激光微纳加工技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，可以<100nm精度实现传统方法难以实现的复杂功能结构和器件的增材制造。而激光直写（DLW）光刻是一项具有空间三维加工能力的微纳加工技术，在微纳集成器件制造中发挥着重要作用。

2023-12-22 10:34:20

401

光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k?因子中，k?因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k?体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。

2023-12-18 10:53:05

326

晶圆级封装(WLP)的各项材料及其作用

本篇文章将探讨用于晶圆级封装(WLP)的各项材料，从光刻胶中的树脂，到晶圆承载系统(WSS)中的粘合剂，这些材料均在晶圆级封装中发挥着重要作用。

2023-12-15 17:20:36

807

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？

2023-12-15 09:35:56

442

光刻各环节对应的不同模型种类

光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻

2023-12-11 11:35:32

288

半导体制造之光刻工艺讲解

光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

2023-12-04 09:17:24

1334

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。

2023-11-29 10:28:50

283

不仅需要***，更需要光刻胶

为了生产高纯度、高质量的光刻胶，需要高纯度的配方原料，例如光刻树脂，溶剂PGMEA…此外，生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如，2019年，某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染，导致上万片12吋晶圆报废

2023-11-27 17:15:48

550

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

2023-11-23 18:13:02

579

西陇科学9天8板，回应称“未生产、销售光刻胶”

　20日，西陇科学（株）发布公告称，该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶，占公司营业收入的比例，是目前用于上述用途的光刻胶配套。

2023-11-21 14:54:57

315

基于JSM-35CF SEM的纳米电子束光刻系统实现与应用

在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。

2023-11-20 09:30:05

406

储能技术对智能电网的建设作用

电子发烧友网站提供《储能技术对智能电网的建设作用.pdf》资料免费下载

2023-11-14 10:44:33

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？

2023-11-13 18:14:11

571

ASML携全景光刻解决方案亮相进博会

第六届进博会于近日在上海国家会展中心正式收官，ASML2023进博之旅也圆满落幕! 今年，ASML继续以“光刻未来，携手同行”为主题，携全景光刻解决方案惊艳亮相，还创新性地带来了“芯”意满满的沉浸

2023-11-11 15:23:53

595

片内和片间非均匀性是什么？如何计算？有什么作用呢？

导语：均匀性在芯片制程的每一个工序中都需要考虑到，包括薄膜沉积，刻蚀，光刻，cmp，离子注入等。较高的均匀性才能保证芯片的产品与性能。那么片内和片间非均匀性是什么？如何计算？有什么作用呢？

2023-11-01 18:21:12

503

半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状

生产光刻胶的原料包括光引发剂（光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用）、树脂、溶剂和其他添加剂等，我国由于资金和技术的差距，如感光剂、树脂等被外企垄断，所以光刻胶自给能力不足。

2023-11-01 15:51:48

138

什么是EUV光刻？EUV与DUV光刻的区别

EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。

2023-10-30 12:22:55

615

半导体制造领域光刻胶的作用和意义

光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。

2023-10-26 15:10:24

359

光学光刻技术有哪些分类光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。

2023-10-24 11:43:15

271

PCB激光投影光刻照明系统的设计

电子发烧友网站提供《PCB激光投影光刻照明系统的设计.pdf》资料免费下载

2023-10-23 09:38:18

arduino平台millis()函数有什么作用？

有关arduino平台millis()函数，有什么作用？

2023-10-20 06:30:17

各种光刻技术你都了解吗？

当制程节点演进到5nm时，DUV和多重曝光技术的组合也难以满足量产需求了，EUV光刻机就成为前道工序的必需品了，没有它，很难制造出符合应用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整个生产线的良率也非常低，无法形成大规模的商业化生产。

2023-10-13 14:45:03

834

半导体制造之光刻原理、工艺流程

光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。

2023-10-09 14:34:49

1674

MDK的里面代码补全的功能是有什么作用的？

MDK的里面代码补全的功能是有什么作用的

2023-10-09 08:51:32

关于光刻技术的五大分类

光刻是通过一系列操作，除去外延片表面特定部分的工艺，在半导体器件和集成电路制作中起到极为关键的作用。

2023-10-08 10:11:23

696

sprintf和printf有什么区别？返回值有什么作用？

sprintf和printf有什么区别，返回值有什么作用？

2023-10-08 08:19:04

极紫外 (EUVL) 光刻设备技术应用分析

欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。

2023-09-25 11:10:50

264

芯片和线路板的光刻技术不同？差别在哪里？

线路板的光刻技术

2023-09-21 10:20:34

607

化学机械抛光(CMP) 技术的发展应用及存在问题

性能和速度上同时满足了圆片图形加工的要求。CMP 技术是机械削磨和化学腐蚀的组合技术 , 它借助超微粒子的研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁平坦表面[2、3] 。CMP 技术对于

2023-09-19 07:23:03

EUV光刻胶开发面临哪些挑战？

EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度（LER）、降低释气和提高热稳定性。

2023-09-11 11:58:42

349

湿法去胶液的种类有哪些？去胶液都有哪些种类？去胶原理是什么？

光刻技术通过光刻胶将图案成功转移到硅片上，但是在相关制程结束后就需要完全除去光刻胶，那么这个时候去胶液就发挥了作用，那么去胶液都有哪些种类？去胶原理是什么？

2023-09-06 10:25:01

1152

光伏刻蚀工艺流程光刻蚀刻加工原理是什么

光刻蚀（Photolithography）是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术，用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用，通过光罩的设计和控制，将光影投射到光敏材料上，形成所需的图案。

2023-08-24 15:57:42

2270

半导体制造工艺之光刻工艺详解

2023-08-24 10:38:54

1221

什么是光刻工艺？光刻的基本原理

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。

2023-08-23 10:47:53

1586

浸没式光刻，拯救摩尔定律

2000年代初，芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩（ArF）光源光刻技术过渡到157纳米氟（F 2 ）光源光刻技术。

2023-08-23 10:33:46

798

光刻技术概述及其分类

光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。

2023-08-07 17:52:53

1480

EUV光刻市场高速增长，复合年增长率21.8%

EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。

2023-08-07 15:55:02

396

次时代EUV光刻已箭在弦上！

半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的，尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止，但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。

2023-07-28 17:41:16

1130

深紫外光刻复杂照明光学系统设计

摘要：随着微电子产业的迅猛发展，我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备

2023-07-17 11:02:38

592

光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪

GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过

2023-07-07 11:46:07

虹科案例 | 用于低成本改造光刻设备的UV紫外光源

? ? 紫外光刻和曝光是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术。在紫外光刻过程中，光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅，然后投射到光刻胶层上，形成所需的微细图案。长期以来

2023-07-05 10:11:24

1026

3D IC对光刻技术的新技术要求

中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授

2023-06-30 10:06:02

261

基于机器学习的逆向光刻技术

2023-06-29 10:02:17

327

晶圆代工厂如何突破物理极限提升光刻技术？

EUV微影技术的落实延续了摩尔定律的寿命，这里的EUV指的其实是一种紫外光源，跟过去光刻技术所采用的光源比起来，EUV的波长更短，因此有助于大幅提高分辨率。

2023-06-27 10:11:42

248

光刻对准原理与精度控制

2023-06-26 17:00:19

766

一文了解光刻的历史

如今，光刻技术已成为一项容错率极低的大产业。全球领先的荷兰公司 ASML 也是欧洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依赖于世界上最平坦的镜子、最强大的商用激光器之一以及比太阳表面爆炸还高的热度，在硅上刻出微小的形状，尺寸仅为几纳米。

2023-06-26 16:59:16

569

与EUV相比，这一光刻技术更具发展潜力

对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。

2023-06-25 10:25:08

443

光刻中承上启下的半导体掩膜版

电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形信息转移到

2023-06-22 01:27:00

1984

硅基光刻技术在柔性电子器件制造中的应用

近日，湖南大学段辉高教授团队通过开发基于“光刻胶全干法转印”技术的新型光刻工艺，用于柔性及不规则（曲面、悬空）衬底上柔性电子器件的原位和高保形制造，为高精度、高可靠性和高稳定性柔性电子器件的制造提供

2023-06-17 10:19:38

507

面向光刻的设计规则建立及优化

2023-06-14 10:16:38

226

芯片制造之光刻工艺详细流程图

光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。

2023-06-09 10:49:20

5857

芯片制造光刻步骤详解

芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。

2023-06-08 10:57:09

3765

一文看懂EUV光刻

极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。

2023-06-06 11:23:54

688

知识分享---光刻模块标准步骤

通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征，以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像，并具有所需的侧壁轮廓。

2023-06-02 16:30:25

418

逆向光刻的原理及其优势

中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。

2023-05-26 14:59:17

528

化学放大型光刻胶的作用原理

感光速度:即光刻胶受光照射发生溶解速度改变所需的最小能量，感光速度越快，单位时间内芯片制造的产出越高，经济效益越好，另-方面，过快的感光速度会对引起工艺宽容度的减小，影响工艺制程的稳定性。

2023-05-25 09:46:09

561

光刻技术：光学关键尺寸测量（OCD）原理

　　集成电路芯片持续朝着密度不断增加和器件尺寸不断微缩的方向发展，其中最为关键的一个参数就是栅极线条宽度。任何经过光刻后的光刻胶线条宽度或刻蚀后栅极线条宽度与设计尺寸的偏离都会直接影响最终器件的性能

2023-05-24 09:25:19

3491

EUV光刻技术优势及挑战

EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。

2023-05-18 15:49:04

1790

一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。

2023-05-13 11:28:38

1122

二极管的钳位作用和稳压作用有什么不同啊？

2023-05-05 10:00:38

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。

2023-04-27 16:25:00

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NVIDIA H100 GPU为2nm芯片加速计算光刻！

现代工艺技术将晶圆厂设备要求推向极限，需要实现突破其物理极限的高分辨率，这正是计算光刻技术发挥作用的地方。计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，它结合来自ASML设备和测试晶圆的关键数据，是一个模拟生产过程的算法。

2023-04-26 10:05:29

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浅谈光刻技术

在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。

2023-04-26 08:57:03

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光刻技术的种类介绍

根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

2023-04-25 11:11:33

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光刻技术的详细工序

清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷，提高光刻胶黏附性基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。

2023-04-25 11:09:40

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光刻技术的原理及发展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

2023-04-25 11:05:32

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什么是光刻技术

光刻技术简单来讲，就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程，是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术，CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。

2023-04-25 11:02:32

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光刻技术简述

光刻技术是将掩模中的几何形状的图案转移到覆盖在半导体晶片表面的薄层辐射敏感材料（称为抗蚀剂）上的过程

2023-04-25 09:55:13

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计算光刻技术有多重要？计算光刻如何改变2nm芯片制造？

光刻是在晶圆上创建图案的过程，是芯片制造过程的起始阶段，包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。

2023-04-25 09:22:16

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音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不

2023-04-06 08:56:49

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Dev Error Detect有什么作用？

我想知道 OSIF 的含义以及有关其配置的一些信息。 1. “Dev Error Detect”有什么作用？它是否启用断言来检查/检测有关 Osif 驱动程序的错误？2.“使用系统定时器”选项

2023-03-27 08:56:50

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说

2023-03-23 18:55:37

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光刻技术是什么,有哪些作用

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