概述
HMC338芯片是一款集成LO放大器的次谐波(x2) MMIC通用混频器,可在26至33 GHz的频率范围中用作上变频器或下变频器。 该芯片利用GaAs PHEMT技术,芯片整体面积为1.28mm?。 2 LO至RF隔离性能出色,无需额外滤波。 LO放大器采用单偏置(+3V至+4V)双级设计,仅需-5 dBm的标称驱动。 这些数据均采用50 ohm测试夹具中的芯片测得,该夹具通过直径为0.076 mm (3 mil)、最小长度小于0.31 mm (<12 mils)的焊线连接。
数据表:*附件:HMC338 GaAs MMIC次谐波混频器芯片技术手册.pdf
应用
特性
- 集成LO放大器: -5 dBm输入
- 次谐波(x2) LO
- 高2 LO/RF隔离: 33 dB
- 裸片尺寸: 1.32 x 0.97 x 0.1 mm
框图
电气规格
外形图
焊盘描述
毫米波砷化镓单片微波集成电路(GaAs MMIC)的安装与键合技术
芯片应通过共晶方式或使用导电环氧直接连接到接地层(详见HMC通用操作、安装、键合说明 )。建议使用0.127毫米(5密耳)厚的氧化铝薄膜衬底制作50欧姆微带传输线,用于芯片的射频信号传输(图1)。如果使用0.254毫米(10密耳)厚的氧化铝薄膜衬底,芯片需凸起0.150毫米(6密耳),使芯片表面与衬底表面齐平。实现此目的的一种方法是将0.102毫米(4密耳)厚的芯片附着到0.150毫米(6密耳)厚的钼散热片(钼片)上,然后再将其连接到接地层(图2)。
为了缩短键合线长度,微带衬底应尽可能靠近芯片放置。芯片与衬底的典型间距为0.076毫米(3密耳)。推荐使用宽度为0.075毫米(3密耳)、长度小于0.31毫米(12密耳)的金带进行键合,以减小电感、射频损耗和插入损耗。
应在Vdd输入处使用射频旁路电容。建议使用100 pF单层电容(通过共晶或导电环氧安装),放置在距离芯片不超过0.762毫米(30密耳)处。
操作注意事项
遵循以下预防措施,以免造成永久性损坏:
- 存储 :所有裸芯片应放置在基于醚华夫格或凝胶的静电防护容器中,然后密封在静电防护袋中运输。静电防护袋一旦打开,所有芯片应存放在干燥的氮气环境中。
- 清洁度 :在清洁环境中操作芯片,请勿使用液体清洁系统清洁芯片。
- 静电敏感度 :遵循静电防护措施,防止静电冲击。
- 瞬态 :施加偏置时,抑制仪器和偏置电源的瞬态。使用屏蔽信号线和偏置电缆,以减少电感拾取。
- 一般操作 :使用真空吸笔或锋利的弯头镊子沿芯片边缘操作芯片。芯片表面有脆弱的空气桥,请勿用真空吸笔、镊子或手指触碰。
安装
芯片背面已金属化,可使用金锡共晶预制件或导电环氧进行贴装。贴装表面应清洁平整。
- 共晶芯片贴装 :推荐使用80/20的金锡预制件,工作表面温度为255°C,工具温度为265°C。使用90/10的氮氢混合气体时,工具尖端温度应为290°C。请勿使芯片暴露在高于320°C的温度下超过20秒,贴装过程中擦拭时间不得超过3秒。
- 环氧贴装 :在贴装表面涂抹少量环氧,确保芯片放置到位后,其周边能形成一圈薄环氧边。按制造商的固化时间表固化环氧。
引线键合
推荐使用0.003英寸×0.0005英寸的带状键合线进行射频键合,热压超声键合压力为40 - 60克。推荐使用直径0.001英寸(0.025毫米)的直流键合线,热压超声键合。球键合推荐使用直径0.0015英寸(0.038毫米)的键合线,压力为18 - 22克。所有键合的标称阶段温度应为150°C。应施加最小限度的超声波能量,以实现可靠键合。所有键合线应尽可能短,长度小于12密耳(0.31毫米)。
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