先投2800万美元，美国杜邦拟在韩国生产光刻胶
1 月 10 日消息，据国外媒体报道，美国化工巨头杜邦日前宣布，拟在韩国生产半导体材料光刻胶。
杜邦将扩建位于韩国中部天安市的现有工厂，生产涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”。
杜邦计划首先投入 2800 万美元，确立量产技术，最早于 2021 年启动量产投资。该公司将根据客户的订货量提高产能。
韩国官员去年曾表示，韩国政府计划借日本对韩国出口限制，进一步加强国内半导体研发竞争力。吸引外资企业在韩国投资也是措施之一。
杜邦是一家化工巨头，成立于 1802 年。2015 年，陶氏化学和杜邦美国宣布合并，新公司成为全球仅次于巴斯夫的第二大化工企业。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
半导体
+关注
关注
335文章
29147浏览量
242231 -
光刻胶
+关注
关注
10文章
341浏览量
31086
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产
“研发+量产”双轨并行模式，总产能达万吨级，是目前国内规模领先的KrF光刻胶生产基地。产线集成了高自动化控制系统，从原料配比到成品检测的全流程实现智能化管控，不仅大幅提升了生产效率，更
国产光刻胶突围，日企垄断终松动
? 电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材，尤其高端材料长期被日美巨头垄断，国外企业对原料和配方高度保密，我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期，国产光刻胶领域捷报频
针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在晶圆上芯片制造工艺中，光刻胶剥离是承上启下的关键环节，其效果直接影响芯片性能与良率。同时，光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆芯片工艺的光刻胶剥离方法，并探讨白光
减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
? ? 引言 ? 在半导体制造领域，光刻胶剥离工艺是关键环节，但其可能对器件性能产生负面影响。同时，光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方法，并介绍白光
光刻胶产业国内发展现状
，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，溶解度会发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料。 从芯片生产的工艺流程上来说，光刻胶的应用处于芯片设计、制造、封测当中的制造环节，是芯片制造过程里
光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料，其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时，精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大，白光干涉仪为此提供了
光刻胶的类型及特性
光刻胶类型及特性光刻胶（Photoresist），又称光致抗蚀剂，是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
光刻胶成为半导体产业的关键材料
光刻胶是半导体制造等领域的一种重要材料，在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中，感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能，增感剂有助于提高
三星减少NAND生产光刻胶使用量
近日，据相关报道，三星电子在3D NAND闪存生产领域取得了重要技术突破，成功大幅减少了光刻工艺中光刻胶的使用量。 据悉，三星已经制定了未来NAND闪存的生产路线图，并计划在这一
一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望
光刻技术是现代微电子和纳米技术的研发中的关键一环，而光刻胶，又是光刻技术中的关键组成部分。随着技术的发展，对微小、精密的结构的需求日益增强，光刻胶的需求也水涨船高，在微电子制造和纳米技
一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶
共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章：收藏！常用光刻胶型号资料大全，几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球，领取公众号资料
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？
在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？
在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀化。 如何成功的旋涂微流控SU-
工商网监
评论