9月10日,SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展在深圳国际会展中心(宝安)顺利开幕。广明源(展位号:13G27)在展会中重点展示了172nm准分子光应用方案及系列创新产品,吸引了业内人士的广泛关注。
本次展出的172nm准分子光应用系列方案,主要覆盖半导体等高端制造的关键制程与工艺研发环节,包括光清洗、光固化、光改性及超纯水TOC降解等,为企业提供可控且环保的技术方案,支持核心工艺实现国产化替代。
01晶圆/掩膜板光清洗解决方案
高效去除晶圆及掩膜板表面微观有机污染物,实现原子级洁净处理,无化学残留、低温无损伤。
02晶圆键合改性解决方案
通过精准调节表面亲水性和粘附性能,提升键合效果,处理快速、低热效应且无化学残留。
03超纯水TOC降解解决方案
高效降解超纯水系统中的总有机碳(TOC),洁净度可达ppb级,无化学添加,支持在线连续处理,稳定可靠。
04制程验证开发解决方案
针对工艺研发、制程验证和小批量试产设计的172nm MINI实验模组,结构紧凑、灵活可移、部署便捷,适用于多种实验环境及工艺验证需求。
展会期间,广明源团队与观众进行了深入交流,介绍了各类应用方案的技术特点及实际应用效果,获得了积极反馈。
深圳SEMI-e将持续至9月12日,广明源诚邀各界同仁莅临展位(13G27)参观交流,共同探讨172nm准分子光技术在半导体及相关领域的应用与发展。
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原文标题:SEMI-e现场直击:广明源172nm准分子光应用方案助力半导体核心工艺国产化
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