广明源即将亮相2025深圳国际半导体展

6月4-6日，中国（深圳）国际半导体展览会将在深圳国际会展中心举行。广明源（展位号：14G22）将携172nm等紫外线系列光源、设备与模组亮相，重点展示172nm准分子光在晶圆光清洗、半导体基材表面活化及超纯水TOC降解等工艺环节的应用解决方案。

诚邀行业伙伴莅临交流，共探172nm等紫外光在半导体制造领域的创新应用，携手开启合作新篇章。

观展指南

2025中国（深圳）国际半导体展览会

时间：2025年6月4-6日

地点：深圳国际会展中心14号馆

展位号：14G22

172nm准分子光创新应用

助力半导体制造业高质效升级

1晶圆/掩膜版光清洗

功能：高效去除各类微观有机污染物，实现超净表面。

优势：无化学残留、低温无损伤、原子级洁净度。

应用：晶圆、光罩、掩膜版、显示屏、PET、PCB 等的表面有机污染物清洁、封装前预处理、光刻胶去除。

应用效果

172nm清洁纳米压印模具，提高洁净度。

2晶圆键合改性

功能：可快速精准调节表面亲水性以及粘附性能。

优势：无热效应、快速处理、无化学残留。

应用：薄膜沉积前处理、MEMS封装、3D封装、晶圆键合、倒装芯片键合、引线键合等高精度芯片制造。

应用效果

照射后，亲水性提高，接触角明显变小。

3超纯水TOC降解

功能：高效降解超纯水中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级。

优势：无化学添加、在线降解、高效稳定。

应用：半导体晶圆制程、显示面板生产的超纯水系统。

技术原理

172nm紫外光可促使水体生成自由基，

把有机物快速氧化为CO?和H?O。

诚邀莅临，探讨行业新机遇

深耕光科技应用研发与制造20多年，广明源专注于172nm准分子光源在半导体制造工艺中的创新应用，持续为行业提供高效、可靠、高性价比的技术解决方案。

依托专业的流水线设备设计与定制能力，公司能够根据客户需求，提供半导体等高端制造制程所需的核心光源部件、模组及设备，覆盖从实验验证到大规模量产的全流程解决方案，满足不同阶段的生产需求。同时，依托自主172nm光源技术，助力产业链补链强链，提升国产化替代能力，保障供应链安全与产业体系稳定。

本次展会，我们期待与您面对面交流，探讨172nm准分子光在半导体制造领域不同工艺环节中的技术细节与应用经验，分享行业洞见，助力半导体制造技术持续优化升级。