0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

高效OLED印刷工艺应用 | 椭偏仪优化HTL层VNPB薄膜均匀性

Flexfilm ? 2025-07-22 09:51 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

有机发光二极管OLED的喷墨印刷技术因其材料利用率高、可大面积加工等优势成为产业焦点,但多层溶液加工存在根本性挑战:层间互溶与咖啡环效应引发薄膜不均匀导致器件性能下降。本文提出一种基于二元溶剂(环己酮/环己基苯)和可热交联空穴传输材料VNPB构建稳定界面,首次实现空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)全喷墨印刷,为高性能溶液加工OLED提供新方案。Flexfilm全光谱椭偏仪可为多层印刷工艺提供如薄膜厚度测量等更全面的薄膜表征。

1

实验材料选择

flexfilm

70b42960-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg(a) VNPB热交联反应机理示意图;(b) G2P2分子结构;(c) OLED器件结构剖面图;(d) 能级图

  • ITO基板图案化:光刻胶构筑 200μm 宽沟槽 + 2.5μm 高坝结构。
  • HIL:PEDOT:PSS墨水由 PEDOT:PSS、H?O 和 IPA 按 555 的体积比混合而成。
  • HTL:交联型 VNPB(苯乙烯基团热交联),通过热交联反应形成三维网络。VNPB 墨水则采用 CYC:CHB(60:40 体积比)的混合溶剂,浓度均为 2 mg?mL??5。
  • EML:磷光绿光G2P2Ir(Ph-BM-P2D2)?G2P2 墨水同VNPB
  • 溶剂体系:主溶剂环己酮(CYC)提供溶解性,助溶剂环己基苯(CHB)通过高沸点和高粘度抑制溶剂快速挥发。

薄膜印刷工艺使用喷墨打印机进行薄膜印刷,针对不同材料设置了相应的印刷参数:

  • PEDOT:PSS(脉冲电压70 V,200°C退火4 min)。
  • VNPB(77 V,210°C交联45 min)。
  • G2P2(79 V,150°C退火30 min)。

OLED器件制备OLED 器件的结构为:阳极ITO / PEDOT:PSS(50 nm) / VNPB(20 nm) / G2P2(30 nm) / SPPO13(55 nm) /阴极LiF(1 nm) / Al(120 nm) ,并分别制备了旋涂喷墨印刷器件以供对比。

2

溶剂系统设计

flexfilm

70c27ce0-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

(a) G2P2在不同混合溶剂中的溶解状态;(b) G2P2在三维Hansen空间中的溶解球模型

通过Hansen溶解度参数筛选CYC为主溶剂(Ra=2.7 MPa?/?),CHB为助溶剂(高沸点242℃,低表面张力34.7 mN/m)。

70d113b8-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

二元溶剂抑制咖啡环机理

二元溶剂体系显著降低毛细管数(Ca=0.66),抑制咖啡环效应。VNPB交联后对CYC/CHB二元溶剂的溶解度下降95%,确保界面清晰。

3

多层印刷薄膜性能

flexfilm

70db2a2e-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

印刷薄膜的光学图像与相应旋涂/印刷薄膜的AFM形貌:(a) PEDOT:PSS (b) VNPB (c) G2P2

薄膜均匀性通过优化油墨配方和打印参数,成功实现了多层薄膜的均匀打印,避免了层间溶解和咖啡环效应。具体来说,VNPB和G2P2薄膜在打印后表现出良好的覆盖性和均匀性,薄膜厚度表面粗糙度与旋涂薄膜相当。

70eba52a-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

VNPB印刷薄膜厚度控制(a-e) 不同浓度与液膜厚度组合下的光学图像(f) 厚度-液膜厚度关系曲线70fda284-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpgG2P2印刷薄膜厚度控制(a-e) 不同浓度与液膜厚度组合下的光学图像(f) 厚度-液膜厚度关系曲线710c6896-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpgVNPB层经不同溶剂冲洗后的厚度变化

界面溶剂抵抗性通过测量薄膜在不同溶剂中的厚度变化,验证了交联后的VNPB薄膜对二元溶剂具有良好的溶剂抵抗性。分别用 CB、CYC、CHB 及二元溶剂冲洗后,其厚度仅减少 4.7%,使得 HTL 和 EML 之间形成清晰的界面,无层间溶解现象。

4

OLED器件性能

flexfilm

711da5de-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg(a) 图案化印刷OLED发光图像;(b-d) 电流密度-电压、电流效率-亮度及电致发光光谱对比

喷墨印刷的OLED器件表现出良好的电致发光性能,开启电压为3.0 V,最大亮度为12233.3 cd m-2,电流效率为20.4 cd A-1。虽较旋涂器件(36.0 cd/A)下降43%,但已满足显示级应用需求。本研究通过设计二元墨水配方和采用可交联小分子 VNPB 作为中间层,成功实现了有机发光二极管(OLED)多层喷墨印刷。该墨水配方不仅能保证材料的溶解性和印刷适性,有效抑制咖啡环和脱湿现象,提高薄膜均匀性,还能避免层间溶解,形成清晰的界面。

Flexfilm全光谱椭偏仪

flexfilm

全光谱椭偏仪拥有高灵敏度探测单元光谱椭偏仪分析软件,专门用于测量和分析光伏领域中单层或多层纳米薄膜的层构参数(如厚度)和物理参数(如折射率n、消光系数k)

  • 先进的旋转补偿器测量技术:无测量死角问题。
  • 粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量:先进的光能量增强技术,高信噪比的探测技术。
  • 秒级的全光谱测量速度:全光谱测量典型5-10秒。
  • 原子层量级的检测灵敏度:测量精度可达0.05nm。

Flexfilm全光谱椭偏仪可以完成OLED电致发光层中多层膜(如:ITO层,空穴注入层,空穴传输层,以及重组/发光层等超薄有机膜)的膜厚和光学常数的快速测试,同时还能准确描述材料的各向异性。

原文参考:《Improving film uniformity and interface solvent resistance to realize multilayer printing of OLED devices?》

*特别声明:本公众号所发布的原创及转载文章,仅用于学术分享和传递行业相关信息。未经授权,不得抄袭、篡改、引用、转载等侵犯本公众号相关权益的行为。内容仅供参考,如涉及版权问题,敬请联系,我们将在第一时间核实并处理。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 二极管
    +关注

    关注

    148

    文章

    10117

    浏览量

    172135
  • OLED
    +关注

    关注

    120

    文章

    6290

    浏览量

    228418
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    SMT锡膏印刷工艺介绍

    SMT锡膏印刷工艺介绍
    发表于 08-11 09:55

    PCB不良设计对印刷工艺的影响

    不少PCB初学者对于设计中一些与印刷工艺相关的细节问题重视不足或易忽视,从而有可能对正在进行的印刷工艺或其它相关制造或维修工艺造成不便,影响生产的可行、效率性和经济
    发表于 06-13 22:09

    smt锡膏印刷工

    本视频主要详细介绍了smt锡膏印刷工序,分别是印刷前检查、SMT锡膏印刷、锡膏印刷工艺要求。
    的头像 发表于 04-28 16:11 ?4928次阅读

    SMT印刷工艺控制流程及常见印刷不良问题

    根据不同的产品,在印刷程序中设置相应印刷工艺参数,如工作温度、工作压力、刮刀速度、模板自动清洁周期等,同时要制定严格的工艺管理制定及工艺规程。
    发表于 03-13 17:02 ?1385次阅读

    芯片印刷工艺流程.zip

    芯片印刷工艺流程
    发表于 12-30 09:22 ?14次下载

    如何测量丝网印刷工艺中烘箱内的电池片真实温度

    光伏行业的丝网印刷工艺是一种在光伏电池片上印刷电极的方法,主要流程包括背电极印刷、背电场印刷和正面栅极印刷。每个步骤都有其特定的作用,如形成
    的头像 发表于 12-05 08:34 ?741次阅读
    如何测量丝网<b class='flag-5'>印刷工艺</b>中烘箱内的电池片真实温度

    SMT贴片锡膏印刷工艺关键点解析

    一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲SMT加工对锡膏印刷工序有什么要求?SMT加工对锡膏印刷工序的要求。在电子制造领域,SMT贴片加工是一项非常重要的工艺。其中的锡膏印刷工序也是影响电
    的头像 发表于 01-23 09:16 ?971次阅读

    基于超构表面阵列的微型单次曝光光谱研究

    在半导体芯片和光学元件加工等应用中,精确测量薄膜的厚度和折射率至关重要。光谱是一种被广泛应用于测量薄膜厚度和折射率的仪器。
    的头像 发表于 04-19 09:17 ?1138次阅读
    基于超构表面阵列的微型单次曝光光谱<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>研究

    基于超构表面的微型

    的仪器。相比其它仪器,它可以实现对薄膜样品参数的高精度、非破坏测量。然而,传统光谱(如图1a所示)需要通过机械旋转的偏振光学元件联合
    的头像 发表于 04-28 06:35 ?667次阅读
    基于超构表面的微型<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>

    原理和应用 | 精准测量不同基底光学薄膜TiO?/SiO?的光学常数

    作为表征光学薄膜性能的核心工具,在光学薄膜领域具有不可替代的作用。本研究聚焦基底类型(K9玻璃、石英玻璃、单晶硅)对溶胶-凝胶法制备的
    的头像 发表于 07-22 09:51 ?130次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>原理和应用 | 精准测量不同基底光学<b class='flag-5'>薄膜</b>TiO?/SiO?的光学常数

    大面积薄膜光学映射与成像技术综述:全光谱技术

    检测需求。本文聚焦光学表征技术的革新,重点阐述等光学方法在大面积薄膜映射与成像中的突破应用。其中,Flexfilm全光谱
    的头像 发表于 07-22 09:53 ?101次阅读
    大面积<b class='flag-5'>薄膜</b>光学映射与成像技术综述:全光谱<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b>技术

    薄膜厚度测量技术的综述:从光谱反射法(SR)到光谱(SE)

    被广泛采用。Flexfilm全光谱不仅能够满足工业生产中对薄膜厚度和光学性质的高精度测量需求,还能为科研人员提供丰富的光谱信息,助力新材料的研发和应用。1光
    的头像 发表于 07-22 09:54 ?199次阅读
    <b class='flag-5'>薄膜</b>厚度测量技术的综述:从光谱反射法(SR)到光谱<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>(SE)

    聚焦位置对光谱膜厚测量精度的影响

    在半导体芯片制造中,薄膜厚度的精确测量是确保器件性能的关键环节。随着工艺节点进入纳米级,单颗芯片上可能需要堆叠上百薄膜,且每层厚度仅几纳米至几十纳米。光谱
    的头像 发表于 07-22 09:54 ?107次阅读
    聚焦位置对光谱<b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>膜厚测量精度的影响

    测量薄膜厚度的原理与应用

    在半导体、光学镀膜及新能源材料等领域,精确测量薄膜厚度和光学常数是材料表征的关键步骤。Flexfilm光谱(SpectroscopicEllipsometry,SE)作为一种非接
    的头像 发表于 07-22 09:54 ?151次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>测量<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度的原理与应用

    在半导体薄膜工艺中的应用:膜厚与折射率的测量原理和校准方法

    半导体测量设备主要用于监测晶圆上膜厚、线宽、台阶高度、电阻率等工艺参数,实现器件各项参数的准确控制,进而保障器件的整体性能。主要用于薄膜
    的头像 发表于 07-30 18:03 ?100次阅读
    <b class='flag-5'>椭</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>仪</b>在半导体<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>工艺</b>中的应用:膜厚与折射率的测量原理和校准方法