东京大学开发氧化铟(InGaOx)新型晶体管，延续摩尔定律提供新思路

据报道，东京大学的研究团队近日成功开发出一种基于掺镓氧化铟(InGaOx)晶体材料的新型晶体管。这一创新在微电子技术领域引起了广泛关注，标志着微电子器件性能提升的重要突破。

该研究团队的环绕式金属氧化物场效应晶体管(MOSFET)展现出卓越的性能，迁移率高达44.5 cm?/Vs。在严苛的应力测试中，这款晶体管连续稳定工作近三小时，显示出其在高压和高温等极端条件下的出色可靠性。这种新型晶体管的成功研发，将为微电子技术，特别是人工智能(AI)和大数据处理等领域的应用提供强有力的支持。

核心研究人员陈安兰表示，通过在氧化铟中加入镓元素，研究团队成功优化了材料的电学性能，并有效减少了氧缺陷问题。这一突破大幅提升了晶体管的稳定性，打破了传统硅基材料在性能上的限制。研究人员采用了原子层沉积(ALD)工艺，逐层构建InGaOx薄膜，并通过精确加热将其转化为目标晶体结构，最终制备出高性能的MOSFET。

这一成果不仅提升了晶体管的性能，也为延续摩尔定律提供了新思路。摩尔定律概述了集成电路上可容纳的晶体管数目每两年大约翻一番的趋势，然而随着传统硅基材料逐渐接近物理极限，寻找新材料成为了亟待解决的难题。InGaOx晶体的成功开发，为解决这一问题开辟了新的路径。

东京大学的这项研究不仅为微电子领域带来了希望，也可能在未来影响到智能手机、计算机以及更广泛的电子产品的性能和能效。随着AI和大数据处理需求的不断增加，提升计算性能已成为电子行业的重要目标，而新型晶体管的广泛应用无疑将推动相关技术的发展。

在全球范围内，微电子行业正面临着快速变化和技术革新的挑战。东京大学的这一研究成果，可能会促进更多科研机构和企业对新材料的探索与应用，进一步推动微电子技术的进步。

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