或许,大家会说,晶圆知道是什么,清洗机也懂。当单晶圆与清洗机放一起了,大家好奇的是到底什么是单晶圆清洗机呢?面对这个机器,不少人都是陌生的,不如我们来给大家讲讲,做一个简单的介绍?
单晶圆清洗机是一种用于高效、无损地清洗半导体晶圆表面及内部污染物的关键设备。简单来说,这个机器具有以下这些特点:
清洗效果好:能够有效去除晶圆表面的颗粒、有机物、金属杂质、光刻胶残留等各种污染物,满足半导体制造对晶圆清洁度的严格要求。
自动化程度高:可实现自动装片、卸片、清洗、干燥等一系列操作,减少了人工干预,提高了生产效率和清洗的一致性。
清洗过程可控性强:可根据不同的晶圆类型、污染程度和清洗要求,精确调整清洗参数,如清洗时间、清洗液浓度、温度、喷淋压力、超声波功率等,以获得最佳的清洗效果。
适用于多种晶圆尺寸:通常可以兼容不同尺寸的晶圆,如4英寸、6英寸、8英寸、12英寸等,具有较强的通用性。
占地面积小:相较于槽式清洗机等其他类型的清洗设备,单晶圆清洗机结构相对紧凑,占地面积较小,有利于半导体工厂优化空间布局。
单晶圆清洗机在半导体芯片制造的光刻、蚀刻、离子注入、薄膜沉积等各工序前后,对晶圆进行高精度清洗,保障芯片性能与质量;于半导体封装测试环节,能去除封装过程污染物,提升封装可靠性与产品品质;还适用于光伏、LED 等其他需要对晶圆进行高精度清洗的行业。
审核编辑 黄宇
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