一台高端的光刻机由上万个零部件构成,光刻机的主要核心部件主要分为两个部分:分别是对准系统和紫外光源。
目前对准系统主要有两大难题,精密的机械工艺和对准显微镜系统。精密的机械工艺目前只有美国、德国少数国家有这方面的专利,而对准显微镜系统其实就是镜片,在这方面我国一直处于落后的状态。
关于紫外光源,光刻机对光源的要求十分高,一是要有适当的波长,二是光要有足够的能量,三是光能量且必须要均匀的分布在曝光区。
审核编辑:姚远香
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
光源
+关注
关注
3文章
751浏览量
70224 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1168浏览量
48264
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)9月无锡开幕
2025年9月4日至6日,第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025),将在无锡太湖国际博览中心举行。 CSEAC以“专业化、产业化、国际化”为宗旨,是我国半导体设备与核心部件及材料
发表于 07-10 08:55
?982次阅读

壳体变形、微孔难测、热胀冷缩?三坐标锁定电机核心部件真实精度
在电机设计与制造领域中,定子、转子、端盖等核心部件的几何精度与形位公差,直接决定了电机的能效、噪音、振动与寿命。面对复杂曲面、微型槽孔、精密轴承位等严苛测量挑战,传统手段往往力不从心。在电机高效化

电子防潮柜的核心部件功能及工作原理
电子防潮柜采用电子技术和物理吸附原理相结合的方法,确保柜内相对湿度保持在设定的安全水平,保护精密仪器、光学镜头、电子元件、文物档案等物品免受潮湿影响导致的损坏。它的核心部件主要由以下几部

电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
发表于 05-07 06:03
成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会
【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对光刻机的需求持续增长,尤其是在先
如何提高光刻机的NA值
本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高? ? 什么是NA值? ? 如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名

组成光刻机的各个分系统介绍
? 本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高

用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍
? 本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当光刻机的光源波长卡在193nm,芯片制程缩小至6

光刻机的工作原理和分类
? 本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。? ? ? ?? 光刻机:芯片制造的关键角色 ? ? 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位,被誉为芯片制
一文看懂光刻机的结构及双工件台技术
,光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机发展历程

5G基站核心部件有哪些
? 5G 基站核心部件包括基站芯片、基站天线、射频、滤波器、网优设备、功率放大器(PA)与印制电路板(PCB)等。 ? 基站芯片 5G 基站芯片范围广泛,包括 CPU、FPGA、交换芯片、电源芯片

评论