本文我们就来简单介绍一下关于芯片制造过程图解。芯片的制造包含数百个步骤,整个过程中,空气质量和温度都受到严格控制,下面我们就来看看芯片制造过程。
芯片制造过程具体步骤为将材料薄膜沉积到晶圆上,进行光刻胶涂覆、 离子注入、曝光、计算光刻、烘烤与显影、等离子冲洗、热处理、化学气相淀积、物理气相淀积、电镀处理、封装芯片等。
CMP为集成电路制造关键制程,CMP具体指化学机械抛光,是集成电路生产制造过程中实现晶圆表面平坦化的核心技术。CMP 成为关键制程,每一片晶圆在生产过程中都会经历几道甚至几十道的CMP 抛光工艺步骤,成为了目前最有效的抛光工艺。
本文综合整理自ASML 芯智讯 程序员大本营
审核编辑:彭菁
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
460文章
52624浏览量
442784 -
晶圆
+关注
关注
53文章
5183浏览量
130144 -
CMP
+关注
关注
6文章
157浏览量
26815
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
CMP工艺中的缺陷类型
CMP是半导体制造中关键的平坦化工艺,它通过机械磨削和化学腐蚀相结合的方式,去除材料以实现平坦化。然而,由于其复杂性,CMP工艺中可能会出现多种缺陷。这些缺陷通常可以分为机械、化学和表面特性相关的类别。
半导体国产替代材料 | CMP化学机械抛光(Chemical Mechanical Planarization)
一、CMP工艺与抛光材料的核心价值化学机械抛光(ChemicalMechanicalPlanarization,CMP)是半导体制造中实现晶圆表面全局平坦化的关键工艺,通过“化学腐蚀+机械研磨

全球CMP抛光液大厂突发断供?附CMP抛光材料企业盘点与投资逻辑(21361字)
(CMP)DSTlslurry断供:物管通知受台湾出口管制限制,Fab1DSTSlury(料号:M2701505,AGC-TW)暂停供货,存货仅剩5个月用量(267桶)。DSTlslurry?是一种用于半导体制造过程中的抛光液,

PEEK与PPS注塑CMP固定环的性能对比与工艺优化
在半导体制造工艺中,化学机械抛光(CMP)是实现晶圆表面全局平坦化的关键技术,而CMP固定环(保持环)作为抛光头的核心易耗部件,其性能影响着晶圆加工的良率和生产效率。随着半导体技术向更小制程节点

【「大话芯片制造」阅读体验】+ 芯片制造过程和生产工艺
今天阅读了最感兴趣的部分——芯片制造过程章节,可以用下图概括:
芯片的制造工序可分为前道工序和后道工序。前道工序占整个
发表于 12-30 18:15
大话芯片制造之读后感
收到《大话芯片制造》这本书有一周了,现在写第二篇读后感!
我也看了朋友们写的读后感,给我耳目一新的感觉,从头到尾,图文并茂解释很到位!其中感觉芯片制造
发表于 12-21 21:42
【「大话芯片制造」阅读体验】+内容概述,适读人群
制造的各个环节,还从人、产品、资金和产业等多个角度,全面解读了半导体芯片的制造过程。深入浅出,科普与专业并重。
个人评价,这本书最适合的人群是∶想系统的了解半导体行业的爱好者。书中有很
发表于 12-21 16:32
大话芯片制造之读后感超纯水制造
大家能看到这篇读后感,说明赠书公益活动我被选中参加,我也算幸运儿,再次感谢赠书主办方!
关于芯片制造过程中,超纯水设备制造工艺流程中导电率控制。在正常思维方式,水是导电的,原因导电是水
发表于 12-20 22:03
化学机械抛光技术(CMP)的深度探索
在半导体制造这一高度精细且复杂的领域里,CMP(化学机械抛光)技术就像是一颗默默闪耀在后台的璀璨宝石,尽管不为普通大众所知晓,但在芯片制造的整个流程中,它却是不可或缺的重要一环。今天,
CMP技术原理,面临的挑战及前景分析
在半导体制造这个高度精密且复杂的领域中,CMP(化学机械抛光)技术宛如一颗隐匿于幕后的璀璨明珠,虽不被大众所熟知,却在芯片制造的进程中扮演着不可或缺的关键角色。今天,就让我们一同深入挖
如何使用cmp进行数据库管理的技巧
你在使用 cmp 命令时进行有效的数据库管理。 1. 理解 cmp 命令 cmp 命令用于比较两个文件是否在内容上完全相同。它逐字节比较文件,并在找到第一个不同的地方时停止。这对于检查数据库文件的一致性非常有用,尤其是在备份和恢
cmp在数据处理中的应用 如何优化cmp性能
CMP在数据处理中的应用 CMP(并行处理)技术在数据处理领域扮演着越来越重要的角色。随着数据量的爆炸性增长,传统的串行处理方法已经无法满足现代应用对速度和效率的需求。CMP通过将数据分割成多个小块
CMP的平坦化机理、市场现状与未来展望
CMP技术概述 化学机械抛光(CMP,Chemical Mechanical Polishing)作为一种关键的半导体制造工艺,近年来随着半导体产业的快速发展,其重要性日益凸显。CMP

名单公布!【书籍评测活动NO.50】亲历芯片产线,轻松图解芯片制造,揭秘芯片工厂的秘密
半导体部门总经理和总工程师。著有多本畅销科普图书。
本书秉承了日式科普书风格,通过大量原理图片和实物图片,以图解形式、轻松有趣讲解了芯片制造工厂的基础设施、制造工艺、原理、设备、材料、
发表于 11-04 15:38
评论