KLA邀您相约2025中国光博会

KLA Instruments 小课堂

定期分享KLA Instruments旗下产品的各种技术资料、应用笔记和使用指南。

旗下产品包括：轮廓仪、纳米压痕仪、薄膜测厚仪、方阻测量仪以及晶圆缺陷检测系统。

9月10日–9月12日

KLA Instruments将亮相

第二十六届中国国际光电博览会

China International Optoelectronic Exposition

第二十六届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）将于2025年9月10-12日在深圳国际会展中心举办。作为覆盖光电全产业链的综合型展会，CIOE中国光博会汇聚了来自全球超30个国家和地区的超3800家的优质参展企业，八大主题展覆盖信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外、紫外、智能传感、新型显示、AR & VR、光电子创新等板块， 是寻找研发和生产制造中所需要的材料、器件、设备及解决方案的一站式高效采购平台，也是精准商贸需求配对，快速拓展商业社交圈，把握行业发展前沿资讯和动态的商贸平台。

KLA Instruments将借此次机会展出Zeta光学轮廓仪，iNano纳米压痕仪，Filmetrics膜厚仪，Filmetrics方块电阻测量仪等多款重点机型，期待您的莅临。

展会时间：2025年9月10日–12日

展会地点：深圳国际会展中心

宝安新馆7号馆

展位号：7B13

先睹为快！精华提前剧透！

本期课程：

Zeta缺陷检测和表征的应用

Zeta光学轮廓仪缺陷标记

失效分析依赖于在样品上识别出一个关注区域（ROI），以便在扫描电子显微镜（SEM）、聚焦离子束（FIB）或原子力显微镜（AFM）下进行后续详细分析。一个方法是使用手持刻刀在观光学显微镜下对样品进行标记。当被标记的特征比较大且与周围的其他特征明显不同时，这种方法是合适的。然而，标记小尺寸的确实是具有挑战性的，较小的物镜工作距离限制了手持刻划工具靠近关键区域的能力。从而导致关键区域在分析工具中难以找到。

KLA Instruments的Zeta光学轮廓仪开发了原位刻划功能，解决了这一问题。光学轮廓仪集成了的划线物镜，可以轻松定位和标记ROI，以便进一步分析。划线物镜安装在电动物镜转台，在电动载台的配合下，使得刻划标记可以精确且快速地放置在靠近关注区域的位置。图1中显示了物镜转台上的划线物镜。

图1. 安装在物镜转台上的划线物镜

划线物镜可在各种硬度范围的材料轻松地刻划。可以选择三种不同的金刚石尖端曲率半径（2微米、5微米和10微米）以满足其样本的特定要求。图2展示了铝、玻璃和硅上的刻划功能标记，尽管硬度有所不同，划线物镜在这三种材料上都能清晰地留下标记。由划线物镜施加在样品上的负载是可调的，还能够在硬度范围从比铝软到比硅硬的其他材料上进行标记。几个书写模式预先编程以满足各种客户需求。图3显示了一个图案化的十字，围绕并指向关注区域。十字每条线的末端与ROI位置之间的距离可以进行调整。图4展示了一种错开的模式，这种模式可帮助快速定位ROI所在方向，并找到ROI的位置。

图2. 划线物镜可在不同硬度的材料上标记，包括铝（左）、玻璃（中）和硅（右）

图3.交叉标记模式，ROI区域位于交叉标记中间

图4. 错开标记模式

刻划功能与自动光学检测（AOI）互联

AOI是用于扫描样品缺陷的大小和位置的技术。AOI在以下方面非常有用：（1）定位难以发现的孤立缺陷，（2）在存在多个缺陷时收集统计尺寸分布，以及（3）缺陷表征。使用刻划功能标记缺陷的位置以便进一步研究，并导出缺陷KLARF文件可快速追踪缺陷位置。图5展示了使用AOI功能发现了两个缺陷的例子。

图5. Zeta AOI缺陷检测应用程序定位的缺陷示例

AOI可生成缺陷列表并进行分类。图 6 展示了缺陷列表中选择了特定缺陷，然后将其定位在视场中，接着选择更高倍数的物镜进行三维数据收集。

图6. Zeta AOI分析能力的缺陷追踪

AOI缺陷检测、原位刻划功能和三维轮廓测量等功能的协同配合，可实现缺陷表征。可以从AOI缺陷列表中选择特定的缺陷，使用划线物镜对其进行标记，并对缺陷进行三位轮廓表征，并通过标记以便以后进行后续详细分析。图 7 展示了测量缺陷的高度和横向尺寸结果。

图7.AOI定位缺陷进行缺陷三维轮廓表征

结论

Zeta光学轮廓仪利用ZDot成像技术，提供灵活且强大的测量功能，用于表征各种样品。划线物镜能够精确标记ROI在硬材料和软材料上的位置，以便后续分析。将划线物镜与自动光学检测和缺陷表征相结合，提供了一种强大的测量功能，将测量与后续分析测量连接起来。