0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

派恩杰第四代碳化硅产品在AI基建的应用

派恩杰半导体 ? 来源:派恩杰半导体 ? 2025-08-18 15:56 ? 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

AI 基建中,碳化硅(SiC)凭借高频高效、耐高温、高功率密度等特性,成为解决 “算力飙升与能耗、空间、散热瓶颈” 矛盾的核心材料。从数据中心电源系统到边缘 AI 设备的稳定运行,派恩杰第四代碳化硅正深度渗透到 AI 基建的全链条。

SiC在AI服务器和数据中心的应用

电源系统中的SiC角色(SST架构):随着AI训练集群功耗攀升,数据中心供电从传统低压方案向高压直流演进。碳化硅器件可支撑800V乃至更高电压的配电架构,在变电站AC/DC整流、固态变压器和中压DC/DC转换环节中发挥关键作用,实现微秒级的故障隔离,提高供电可靠性 。各大云计算中心正试点这种基于SiC的高压直流供电,以应对单机柜功率动辄数百千瓦的未来需求。

提升供电效率与冷却的应用:碳化硅器件耐高温特性使其在高温环境下仍保持性能,意味着电源和UPS可在更高工作温度下运行,降低空调制冷需求,大幅提高了电源转换效率,直接降低了数据中心的散热压力和PUE指标,缓解了数据中心的散热瓶颈,为建设更高功率密度但能效达标的AI机房提供了可行方案。

相对于传统硅器件的技术优势:

①第三代半导体材料SiC具有高禁带宽度、高击穿场强和高热导率等材料优势,使其功率器件在高压、大功率场景下远优于硅器件;

②碳化硅MOSFET的开关损耗和导通损耗显著降低,可在更高频率下高效工作,这意味着电源变压器、电感等无源件可以做得更小,系统功率密度更高;

③SiC器件耐受更高结温(可达175~200°C),在环境温度或负载波动较大的情况下仍保持可靠,不易出现热失效;

④相比传统硅MOSFET或IGBT方案,SiC器件能减少约70%的总能量损耗,大幅提升转换效率。

厂商布局

英伟达:面对单柜上百千瓦的新型AI服务器(如含72颗GPU的GB300系统功耗达125~140kW ),英伟达联合电源厂商推动800V直流配电方案,以提高供电效率、减小铜损和系统规模扩展性。

正泰电器:泰芯聚焦于光伏逆变、储能系统和新型高压开关等领域,将碳化硅技术引入正泰的新能源解决方案中 。在数据中心方面,正泰电器作为供配电设备供应商,有望将SiC器件应用于其高效UPS、电源模块和配电单元(PDU)中,以提升效率和降低能耗。

安森美:推出了面向AI数据中心的完整电源解决方案,从交流输入到48V配电再到负载点(PoL)都有相应芯片;与友商联合推动数据中心800V直流供电转型,安森美提供涵盖固态变压器、800V配电和核心降压环节的高效SiC方案 。

英飞凌:针对AI服务器发布了高能效电源装置路线图,新增8kW和12kW级别PSU产品,以满足未来单机架数百千瓦供电的需求。其12kW参考电源效率高达97.5%,功率密度提升至100 W/in?(相比现有3kW电源的32 W/in?),能够支持每机架≥300kW的输出,大幅缩减系统体积并降低运营成本。

Wolfspeed:Wolfspeed推出了第4代碳化硅MOSFET平台(750V/1200V/2300V系列),专注提升高功率设计的开关效率和热性能,目标应用包括AI数据中心电源等高压大功率场景。

派恩杰产品在AI基建的应用

AI服务器与数据中心的高效电源管理

①派恩杰的SiC MOSFET和功率模块可通过低导通损耗和高开关频率特性,显著提升 AI 服务器电源系统的效率。第四代SiC MOSFET在 750V 电压平台下导通电阻低至 7mΩ,开关损耗降低 20% 以上,可直接应用于服务器电源的图腾柱 PFC(功率因数校正)和 LLC 谐振拓扑中;

②在 AI 训练集群中,派恩杰的 2000V 高压 SiC 模块(如 PAA12400BM3)可用于GPU 供电系统,通过降低电压转换级数和提高电流密度,使得供电效率提升,这种设计不仅减少了电源体积,还能支持液冷散热方案,适应 AI 芯片高功率的热设计功耗需求。

AI算力网络的核心节点优化:派恩杰的 750V/1200V SiC 器件广泛应用于 5G 基站的射频电源和基带处理单元。 SiC MOSFET 在 5G 宏基站的高效电源中,较于传统硅基方案可有效提升电源效率,同时支持更高的调制频率,满足 5G 网络低时延、高带宽的需求。

AI能源基础设施的协同优化:

①2000V SiC 功率模块在光伏逆变器中实现高频的峰值效率,相比传统硅基方案年发电量显著提升;

②在储能系统中,SiC MOSFET 可优化双向变流器的充放电效率,使储能 PCS(储能变流器)的年度收益有效增加。这种技术优势直接支撑 AI 数据中心的绿色能源供给,使得光伏电力的消纳率提升,降低对传统电网的依赖。

AI芯片与加速卡的关键支撑:派恩杰的 SiC 器件与主流 AI 芯片形成深度协同,为多种类型GPU 提供多相降压电源,通过低 ESR(等效串联电阻)特性减少纹波,确保芯片在高频运算时的稳定性,1200V SiC MOSFET可将GPU供电系统体积缩小。支持液冷散热;在定制化 AI 芯片中,派恩杰的 SiC SBD用于电源钳位电路,通过快速响应能力保护芯片免受浪涌冲击,提升长期可靠性。

市场趋势与案例分析

全球市场规模与增速:第三代半导体迎来高速成长期,AI数据中心等新兴领域的占比正迅速提升。随着需求爆发,国际巨头正加码投资8英寸产线和原材料供应;同

时,也为中国厂商在局部领域实现突破提供了空间。

中国市场容量与增长:中国作为算力基础设施建设最快的地区之一,数据中心相关市场正迅猛增长。数据中心耗电量亦连年攀升,2021年全国IDC用电超2100亿度,预计2025年将接近4000亿度,占全社会用电比重将从2018年的1.6%升至5.8% 。为降低能耗、提升算力密度,监管层已要求新建大型/超大型数据中心PUE降至1.4以下 。这一系列政策驱动下,采用高效SiC器件来优化电源和制冷系统成为趋势:业内预计数据中心将成为继新能源车之后国内碳化硅应用的新蓝海。随着国产SiC技

术的成熟和成本下降,中国有望涌现更多AI数据中心SiC应用的落地案例。

主要驱动力:

①能效提升和碳减排是SiC在AI基建领域渗透的核心动力。AI模型训练和推理使数据中心功耗激增,供电能耗已占运营成本的30–60%不等 。采用碳化硅器件可以显著降低电源转换损耗,每年为超大规模数据中心节省巨额电费,并减少温室气体排放;

②基于高功率密度需求,传统硅器件难以支撑密集供电和散热需求,SiC/GaN器件则提供了可行方案。

典型应用案例:越来越多实际案例证明了碳化硅在AI数据中心中的价值。

①意大利Riello公司推出的新一代模块化UPS Multi Power2,专为高密度数据中心设计,集成了SiC功率模块;

②科环电子等厂商推出的全SiC服务器电源,已在部分AI机房试点应用,单电源功率从3kW提高到6kW以上且效率超过96%,帮助单机柜供电容量提升同时控制住PUE增长。

随着更多厂商跟进和规模效应显现,碳化硅将在AI算力基础设施中实现更大规模的商业落地,支撑起高速增长的算力需求与可持续发展的能源目标。同时8英寸碳化硅晶圆量产(2025 年成本预计下降 50%),使其在AI 基建中的渗透率将从当前的 15% 提升至 2027 年的 40%,成为支撑“算力爆发式增长”的关键材料基石。

派恩杰半导体

成立于2018年9月的第三代半导体功率器件设计和方案商,国际标准委员会JC-70会议的主要成员之一,参与制定宽禁带半导体功率器件国际标准。发布了100余款650V/1200V/1700V SiC SBD、SiC MOSFET、GaN HEMT功率器件,其中SiC MOSFET芯片已大规模导入国产新能源整车厂和Tier 1,其余产品广泛用于大数据中心、超级计算与区块链、5G通信基站、储能/充电桩、微型光伏、城际高速铁路和城际轨道交通、家用电器以及特高压、航空航天、工业特种电源、UPS、电机驱动等领域。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 服务器
    +关注

    关注

    13

    文章

    9863

    浏览量

    88438
  • SiC
    SiC
    +关注

    关注

    32

    文章

    3266

    浏览量

    65914
  • 碳化硅
    +关注

    关注

    25

    文章

    3104

    浏览量

    50765
  • 派恩杰
    +关注

    关注

    0

    文章

    31

    浏览量

    3345

原文标题:碳化硅在AI算力服务器及基础设施中的应用、厂商布局与市场趋势

文章出处:【微信号:派恩杰半导体,微信公众号:派恩杰半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    Wolfspeed推出第四代高性能碳化硅MOSFET

    Wolfspeed 推出第四代 (Gen 4) 1200 V 车规级碳化硅 (SiC) 裸芯片 MOSFET 系列,专为严苛的汽车环境设计。Wolfspeed 第四代高性能碳化硅 MO
    的头像 发表于 08-11 16:54 ?1543次阅读

    发布第四代SiC MOSFET系列产品

    近日,半导体正式发布基于第四代平面栅工艺的SiC MOSFET系列产品。该系列750V电
    的头像 发表于 08-05 15:19 ?445次阅读
    <b class='flag-5'>派</b><b class='flag-5'>恩</b><b class='flag-5'>杰</b>发布<b class='flag-5'>第四代</b>SiC MOSFET系列<b class='flag-5'>产品</b>

    高通推出第四代骁龙7移动平台

    Elite Gaming特性尽享紧张刺激的游戏体验,第四代骁龙7极具吸引力的出色功能让用户能够全身心沉浸所爱。第四代骁龙7还带来了创新的AI功能,支持直接在终端侧运行生成式AI助手和
    的头像 发表于 05-19 15:02 ?790次阅读

    高通推出第四代骁龙8s移动平台

    今日,高通技术公司宣布推出第四代骁龙8s移动平台,该平台专为追求出色娱乐体验和创作体验的用户打造,旨在将旗舰性能和先进特性带给更多消费者,并为手游玩家和创作者提供强劲支持。第四代骁龙8s能够确保终端持久运行,满足用户全天候的多样化需求,无论是随时随地畅玩游戏、享受影音娱乐
    的头像 发表于 04-03 17:44 ?1163次阅读

    推出最新研发的高压碳化硅功率器件与车规级碳化硅模块产品

    3月28日,在上海举办为期三天且备受行业瞩目的新能源汽车盛会——汽车动力系统技术展览会圆满落幕,本次会上,展出了最新研发的高压碳化硅功率器件与车规级
    的头像 发表于 03-29 09:10 ?1407次阅读

    曝三星已量产第四代4nm芯片

    据外媒曝料称三星已量产第四代4nm芯片。报道中称三星自从2021年首次量产4nm芯片以来,每年都在改进技术。三星现在使用的是其最新的第四代4nm工艺节点(SF4X)进行大规模生产。第四代4nm工艺
    的头像 发表于 03-12 16:07 ?1.2w次阅读

    高通跃龙第四代固定无线接入平台至尊版发布

    高通技术公司今日宣布推出高通跃龙第四代固定无线接入平台至尊版,这是全球首款5G Advanced FWA平台。
    的头像 发表于 03-04 16:27 ?745次阅读

    Wolfspeed第4碳化硅技术解析

    本白皮书重点介绍 Wolfspeed 专为高功率电子应用而设计的第 4 碳化硅 (SiC) MOSFET 技术。基于碳化硅创新领域的传承,Wolfspeed 定期推出尖端技术解决方
    的头像 发表于 02-19 11:35 ?1213次阅读
    Wolfspeed第4<b class='flag-5'>代</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>技术解析

    AN65-第四代LCD背光技术

    电子发烧友网站提供《AN65-第四代LCD背光技术.pdf》资料免费下载
    发表于 01-09 14:12 ?0次下载
    AN65-<b class='flag-5'>第四代</b>LCD背光技术

    什么是MOSFET栅极氧化层?如何测试SiC碳化硅MOSFET的栅氧可靠性?

    随着电力电子技术的不断进步,碳化硅MOSFET因其高效的开关特性和低导通损耗而备受青睐,成为高功率、高频应用中的首选。作为碳化硅MOSFET器件的重要组成部分,栅极氧化层对器件的整体性能和使用寿命
    发表于 01-04 12:37

    意法半导体第四代碳化硅功率技术问世

    意法半导体(简称ST)推出第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技术。第四代技术有望能效、功率密度和稳健性三个方面成为新的市场标杆。
    的头像 发表于 10-12 11:30 ?1638次阅读

    意法半导体发布第四代SiC MOSFET技术

    意法半导体(简称ST)近日宣布推出其第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技术,标志着公司高效能半导体领域又迈出了重要一步。此次推出的第四代技术,
    的头像 发表于 10-10 18:27 ?1328次阅读

    跨越时代 —— 第四代半导体潜力无限

    来源:半导体材料及器件 二战以来,半导体的发展极大的推动了科技的进步,当前半导体领域是中美竞争的核心领域之一。以硅基为核心的第一半导体,国外遥遥领先;而今,第四代半导体产业化即将落地,能否弯道超车
    的头像 发表于 09-26 15:35 ?1404次阅读
    跨越时代 —— <b class='flag-5'>第四代</b>半导体潜力无限

    富士康,布局第四代半导体

    能,为未来高功率电子元件开辟了新的可能性。 第四代半导体氧化镓 (Ga2O3) 因其优异的性能,被视为下一半导体材料的代表。它拥有超宽能隙 (4.8 eV)、超高临界击穿场强 (8 MV/cm) 等特性,较现有的硅 (Si)、碳化硅
    的头像 发表于 08-27 10:59 ?905次阅读