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金属化后进行边缘钝化技术PET:减少硅太阳能电池分切损失,提升组件效率

美能光伏 ? 2025-08-01 09:03 ? 次阅读
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硅基太阳能电池分切过程(如叠瓦、半片电池)会暴露高活性切割边缘,诱发载流子复合,导致pFF降低。传统解决方案需改造预金属化工艺,工业兼容性低且成本高。本文提出一种金属化后钝化边缘技术(PET),通过热原子层沉积(ALD)精确调控AlO?膜厚(7/14 nm)结合低温退火,实现高效边缘钝化。该技术结合美能在线薄膜厚度测试仪在线实时监控膜厚,确保钝化层厚度一致性以优化长期稳定性,最终助力双面PERC叠瓦电池达成23.5 mW/cm?高功率密度输出。

PET技术与电池表征

Millennial Solar



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(a):双面pSPEER太阳能电池截面示意图(b):PET处理后电池截面

pSPEER???技术原理

边缘钝化机制:分切边缘原生SiO? → AlO?全包覆(7/14 nm)抑制复合

ALD工艺优势:
? 保形沉积→三维边缘全覆盖
?高负固定电荷密度(~10?? cm??)→场效应排斥载流子
?光透过率>98%(d<15 nm,OPTOS光学模拟)

电池制备流程

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pSPEER???电池制备工艺流程

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(a)工业6英寸PERC前驱体;(b)可分离6片电池的金属化晶圆;(c)激光分离后电池(22×148 mm)

?基底:工业6英寸Ga掺杂p型Cz-Si PERC前驱体

?金属化:丝网印刷银主栅、铝背场及正面银栅,快速烧结。

?切割:TLS全程激光热裂切)或LSMC(激光刻划+机械断裂)

?PET处理:ALD沉积AlO? → 热板退火

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(a)LSMC分离边缘(1/3区域粗糙);(b)TLS分离边缘(整体光滑)

边缘钝化实验

Millennial Solar



5440c0ae-6e73-11f0-9080-92fbcf53809c.jpg

PET对分离电池影响的实验流程

实验设计

?步骤:SunsVOC测量(宿主晶圆→切割态→沉积态→退火态)。

?控制组:无AlO?涂层,仅退火。

SunsVOC与IV特性表征

5454ae3e-6e73-11f0-9080-92fbcf53809c.jpg

(a)晶圆SunsVOC测量接触点;(b)分离电池同位置测量

通过SunsVOC测量评估分离与钝化工艺对电池性能的影响。测量在1000 W/m?光照下进行,重点关注pFF开路电压(VOC)变化。分离前后同一位置测量以排除局部不均匀性。IV测试在标准条件下分别测试正反两面,考虑无汇流条区域的指定面积电流密度。

PET实验方案
对比LSMC与TLS分离工艺对pFF的影响。TLS分离后6小时或19小时沉积AlO?(厚度7 nm或14 nm),研究等待时间对钝化效果的影响。退火温度设为<225°C。通过QSSPC测量少数载流子寿命τeff。

钝化层性能验证

Millennial Solar



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AlO?沉积过程中电池堆叠示意图

AlO?沉积过程

?分离后电池(LSMC/TLS工艺)在空气中暴露6-19 小时,暴露期间形成原生 SiO?

?反应器装载:电池正面朝上放置,高度垫片置于电池之间;

?厚度验证:通过在线膜厚仪实时监控厚度,目标厚度d1=7nm 和 d2=14?nm。

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AlO?沉积/退火后的载流子寿命

AlO?退火后,τeff=432 μs(Δn=10?? cm??),对应Seff=22 cm/s,表明当前工艺可实现低边缘复合速度。

SunsVOC结果

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SunsVoc测量的pFF变化

PET效果:LSMC与TLS分离均导致pFF下降?1.2%

沉积AlO?后

?TLS分离电池pFF提升+0.4%,退火后进一步提升至+0.7%

?LSMC分离电池仅提升+0.3%

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PET后pFF稳定性(14 nm AlO?无衰减)

稳定性:14 nmAlO?钝化层表现出长期稳定性(167小时内pFF稳定),可能与致密氧化层生长有关。

IV测试性能

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TLS+PET与LSMC电池IV性能对比

?TLS+PET最佳电池:正面效率ηf=22.1%,输出功率密度pout = 23.5mW/cm?(含10%背面辐照)。

?较LSMC无钝化电池:Δpout= +0.4mW/cm?。

本文提出的后金属化钝化边缘技术(PET)通过低温ALD沉积氧化铝并退火,有效抑制了叠瓦太阳能电池的边缘复合。TLS分离工艺结合PET处理使pFF提升至+0.7%,电池效率达22.1%,输出功率密度达23.5 mW/cm?。14 nmAlO?钝化层表现出长期稳定性。PET技术无需改变预处理工艺,适用于工业化生产,为提升小尺寸太阳能电池效率提供了可行方案。

美能在线薄膜厚度测试仪

Millennial Solar



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POLY5000是专为光伏工艺监控设计的在线膜厚测试仪,可以对样品进行快速、自动的5点同步扫描,监测“工业产线上”各式薄膜的厚度以及光学常数,快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息,可根据客户样品大小定制测量尺寸。

膜厚测试范围20nm-2000nm

快速、自动的5点同步扫描

非接触、无损测量,零碎片率

24小时自动且不停线校准,保证生产效率

美能在线薄膜厚度测试仪能使用户能够优化膜厚特性,在AlO?沉积过程中实时监控AlO?层厚度,验证厚度对稳定性的影响。

原文参考:Postmetallization “Passivated Edge Technology” for Separated Silicon Solar Cells

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