据韩国媒体报道,三星电子正面临其第六代1cnm DRAM的良品率挑战,为确保HBM4内存的顺利量产,公司决定对设计进行重大调整。
自三星1cnm DRAM开发以来,良品率问题一直困扰着公司。尽管在2024年末进行了试产,但结果并未达到预期效果,大规模生产准备阶段的良品率仅在60%至70%左右,远低于行业理想标准。
为了克服这一难题,三星决定对其1cnm DRAM的设计进行重新调整。据悉,此次调整的核心在于保持核心电路线宽不变,同时适当放松外围电路线宽的要求。这一策略旨在通过优化设计,降低生产难度,从而显著提升良品率。
三星方面表示,通过此次设计调整,他们对提升1cnm DRAM的良品率充满信心,并期待能够确保HBM4内存的稳定量产。这一举措不仅展现了三星在半导体技术领域的深厚底蕴,也体现了公司在面对挑战时的灵活应变和坚定决心。
未来,随着良品率的提升和HBM4内存的量产,三星有望在高端内存市场占据更加有利的地位,为全球用户提供更加优质、高效的内存解决方案。
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