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东方晶源电子束检测项目荣登2022“科创中国”先导技术榜

微云疏影 ? 来源:东方晶源 ? 作者:东方晶源 ? 2023-10-09 14:33 ? 次阅读
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日前,2023“科创中国”年度会议上,中国科协正式发布了2022年“科创中国”系列榜单。经初评、终评,遴选公示多个环节,东方晶源申报的“电子束硅片图形缺陷检测与关键尺寸量测设备关键技术及应用”项目荣登“科创中国”先导技术榜。

“科创中国”系列榜单由中国科协推出,是“科创中国”建设的一项引领性、标志性工作,着力打造科技创新驱动高质量发展的风向标,围绕服务国家重大战略需求,促进创新链和产业链深度融合,为前沿技术的转化和产业落地起到带动和示范作用。此次荣登“科创中国”先导技术榜,再次证明东方晶源在电子束检测领域具有创新性、战略性、引领性、突破性,技术达到一定成熟度。

电子束缺陷检测设备(EBI)和关键尺寸量测设备(CD-SEM)是集成电路制造中用于良率监控的关键设备,对于提高集成电路制造企业的产品良率具有重要意义。经过多年技术攻关,东方晶源突破了集成电路制造检测设备的高速高精度硅片传输定位、高速图像像差补偿、自动缺陷检测和智能分类、小线宽尺寸量测等多项关键技术。截至目前,旗下EBI、CD-SEM均已通过产线验证并进入Fab量产,同时获得多家客户重复订单。

EBI设备使用高扫描速度、高束流的电子束对硅片表面进行成像,随后通过智能算法检测出电性和物理缺陷。东方晶源EBI产品(SEpA-i515)可解决在28nm及以上制程的缺陷检测问题,量产可靠性达到90%以上,使用率达到80%以上,适用对象包括但不限于逻辑芯片、闪存存储芯片制造等。

CD-SEM设备使用高分辨率、高稳定性的电子束对硅片表面进行成像,随后通过丰富的量测算法得到关键尺寸信息。东方晶源新一代CD-SEM产品(SEpA-c410)量测结果和重复性可以达到国际主流设备的容差范围,已解决28nm/40nm制程中线宽大于90nm的图形量测需求,设备可靠性达93%。同时更小线宽量测已通过测试验证,持续助力帮助客户解决更小、更高标准的图形量测问题。

东方晶源从创立伊始便聚焦于电子束检测领域,经过数年技术攻关,成功解决多项关键技术难题,填补国内相关技术空白并领跑国内行业发展。本次入选“科创中国”先导技术榜,是国家科技领域对东方晶源技术实力和取得成绩的高度认可。未来,东方晶源将不忘初心,充分发挥在电子束检测领域的技术积累和产业化经验,不断深耕,开拓创新,向更多检测领域积极布局,与产业链上下游企业共同携手,加速推进我国集成电路制造自主可控。

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