越来越多终端市场产品开始搭载采用纳米压印技术生产的器件

经过20多年发展，纳米压印技术、工艺逐渐成熟，越来越多终端市场产品开始搭载采用纳米压印技术生产的器件。该技术避免了极为复杂的光学器件制造工艺，在保持高精度的同时，也不会随产品结构的复杂程度增加而额外增加制造成本。在集成电路、生物传感器、微纳光学器件等应用领域的大批量生产方面，具有无可比拟的优势。

在今年慕尼黑光博会举办的3D人脸识别大会上，3D光学器件厂商均拿出了自己的光学解决方案，无论是采用散斑结构光方案，还是i-TOF、d-TOF方案，其核心光学器件DOE和Diffuser的制造都是采用纳米压印技术量产的。

纳米压印是通过压印使高分子材料产生物理变形以实现光刻胶的图形化，其分辨率不受光的衍射和散射等因素的限制，可突破传统光刻工艺的分辨率极限。

埃眸科技压印175 nm宽度光栅

其次，压印光刻不需要复杂的透镜、曝光光源，并且可以大批量重复的在大面积上制备纳米图形结构，所制作的图案具有很好的均匀性和重复性，是一种能够以低制作成本和高生产效率获得高精度图案的极佳生产方法。

此外，可以将三维结构事先雕刻在模板表面，从而实现高深宽比复杂形状的三维结构图形的直接复制。由于压印光刻具有其他光刻技术不可比拟的众多优点，是量产微纳器件的最佳技术之一。

基于以上优势，纳米压印技术正逐步成为一种高精度、低成本、高效的微纳加工解决方案，例如在半导体芯片（CMOS芯片）、生物传感器（例如基因测序、单分子检测）、光学器件（DOE、Diffuser、MLA、AR衍射波导）、光通信（例如DFB激光器）等方面应用具有无可比拟的优势，给消费、生物、汽车等领域带来极大的发展空间，产业化应用爆发在即。

尽管纳米压印技术原理简单、具有极强的技术优势，但由于其工艺加工对象是纳米级图形结构，操作对象极其精密，所以工艺过程的每一步都对设备和操作有近似苛刻的要求，技术含量很高。尤其是调平和对准系统精度、模板加工精度，材料适配选择、压印工艺细节等更成为纳米压印技术的核心难点，直接影响纳米压印复制精度及大批量生产的关键点。

埃眸科技是一家专业从事纳米压印光刻技术解决方案的公司，核心业务是提供纳米压印设备、制版、工艺、材料系统解决方案。埃眸科技的研发团队来自半导体头部企业，拥有丰富高精密设备开发经验，同时还有一支专业的工艺团队，在输出设备的同时提供工艺配套服务。

目前，埃眸科技已经实现多款量产型纳米压印设备的自主研发，从研发型到量产型，从辊压到硬板压，再到气动压印，根据不同客户不同产品需求，输出不同的针对性设备。公司深耕纳米压印领域，并且已经持续出货交付客户。

物质在纳米尺度下表现出的奇异现象和规律将改变相关理论的现有框架，使人们对物质世界的认识进入到崭新的阶段，孕育着新的技术革命，给材料、信息、制造、生物和医学等领域带来极大的发展空间。纳米科技已成为许多国家提升核心竞争力的产略选择，也是我国有望实现跨越式发展的领域之一，埃眸科技致力于提供纳米压印一站式解决方案，和合作伙伴一起积极探索新的应用场景。

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